6/27 シリコンフォトニクス光集積回路技術の 現状と課題およびその進化

１．シリコンフォトニクスが求められる背景
　1.1 コンピューティング/ネットワークへの大規模なフォトニクスの導入
　1.2 プラガブルトランシーバーから光電コパッケージへ
　1.3 ディスクリートデバイスから集積フォトニクスへ

２．シリコンフォトニクスの特徴と現状
　2.1 小型化、省エネルギー化、ハイブリッド集積による高機能化、光電融合
　2.2 情報通信以外への応用：LiDAR, バイオセンシング
　2.3 産業適用状況：プラガブルトランシーバーは商用化、コパッケージは絶賛開発中

３．フォトニクスのパラダイムシフトへ(シリコンフォトニクスの将来展望）
　3.1 パラダイムシフト：桁違いの量的変革＋インテリジェントなアーキテクチャ
　3.2 物理的限界：加工誤差、キャリア移動度、光非線形効果、量子的限界　　
　3.3 更なる量的変革：300mmウエハプロセス、適応型チューニング、異種材料集積、プラズモニクス
　3.4 フォトニクスに適したアーキテクチャ：　光ニューラルネット、光演算アクセラレーター

４．シリコンフォトニクスの産業展開
　4.1 自動化（実装、評価、設計）＆ファンドリー
　4.2 産業エコシステム, R&Dエコシステム

５．シリコンフォトニクスR&Dエコシステム
　5.1 産総研によるオープンイノベーション活動を例に

　□質疑応答□