イベント
| イベント名 | シリコンフォトニクス光集積回路技術の 現状と課題およびその進化 |
|---|---|
| 開催期間 |
2024年06月27日（木）
13:00～16:30 【アーカイブの視聴期間】 終了翌営業日から7日間［6/28～7/4］を予定 ※アーカイブは原則として編集は行いません ※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。 (開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます） ※会社・自宅にいながら受講可能です※ |
| 会場名 | 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き |
| 会場の住所 | オンライン |
| お申し込み期限日 | 2024年06月27日（木）13時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
シリコンフォトニクス光集積回路技術の
現状と課題およびその進化
ハイブリッド集積、集積フォトニクス、異種材料集積、光電融合、光電コパッケージ
LiDAR、バイオセンシング、光ニューラルネットワーク etc.
■受付中■ 早めのお申込みがおトク！ 早期割引価格対象セミナー
※１名様で開催月の2ヵ月前の月末までにお申込みの場合、
※１名様で開催月の2ヵ月前の月末までにお申込みの場合、
29,700円(税込み)で受講できます。
受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ
プラガブルトランシーバーは商用化・コパッケージは絶賛開発中といった
産業適用状況のシリコンフォトニクス。
その基本的な特徴と課題そして今後の進化の形態までを展望。
情報通信以外への応用にも言及、今後の幅広い応用に向けた情報収集におススメの１講です
| 【Live配信受講者 限定特典のご案内】
当日ご参加いただいたLive(Zoom)配信受講者限定で、特典(無料)として
「アーカイブ配信」の閲覧権が付与されます。
オンライン講習特有の回線トラブルや聞き逃し、振り返り学習にぜひ活用ください。 |
| 講師 |
(国研)産業技術総合研究所 プラットフォームフォトニクス研究センター 総括研究主幹
博士（工学） 山田 浩治 氏
【専門】シリコンフォトニクス、光デバイス、集積光回路
1988-2015: 日本電信電話株式会社 研究所
2015-: 現職
IEEE Fellow, IEICE Senior member
2015-: 現職
IEEE Fellow, IEICE Senior member
| セミナー趣旨 |
量産性や経済性に優れる超小型高密度フォトニック集積プラットフォーム技術であるシリコンフォトニクスはDX化社会の基盤インフラである大規模コンピューティングシステムやネットワークシステムの持続的成長に欠かせない技術であり、近年精力的な研究開発と商用化が進行中であることを理解する。さらに、シリコンフォトニクスの基本的な特徴と課題、および将来的な進化形態について理解し、当該技術の幅広い応用にむけた基礎知識を得る。
| セミナー講演内容 |
１．シリコンフォトニクスが求められる背景
1.1 コンピューティング/ネットワークへの大規模なフォトニクスの導入
1.2 プラガブルトランシーバーから光電コパッケージへ
1.3 ディスクリートデバイスから集積フォトニクスへ
２．シリコンフォトニクスの特徴と現状
2.1 小型化、省エネルギー化、ハイブリッド集積による高機能化、光電融合
2.2 情報通信以外への応用：LiDAR, バイオセンシング
2.3 産業適用状況：プラガブルトランシーバーは商用化、コパッケージは絶賛開発中
３．フォトニクスのパラダイムシフトへ(シリコンフォトニクスの将来展望）
3.1 パラダイムシフト：桁違いの量的変革＋インテリジェントなアーキテクチャ
3.2 物理的限界：加工誤差、キャリア移動度、光非線形効果、量子的限界
3.3 更なる量的変革：300mmウエハプロセス、適応型チューニング、異種材料集積、プラズモニクス
3.4 フォトニクスに適したアーキテクチャ： 光ニューラルネット、光演算アクセラレーター
４．シリコンフォトニクスの産業展開
4.1 自動化（実装、評価、設計）＆ファンドリー
4.2 産業エコシステム, R&Dエコシステム
５．シリコンフォトニクスR&Dエコシステム
5.1 産総研によるオープンイノベーション活動を例に
□質疑応答□
1.1 コンピューティング/ネットワークへの大規模なフォトニクスの導入
1.2 プラガブルトランシーバーから光電コパッケージへ
1.3 ディスクリートデバイスから集積フォトニクスへ
２．シリコンフォトニクスの特徴と現状
2.1 小型化、省エネルギー化、ハイブリッド集積による高機能化、光電融合
2.2 情報通信以外への応用：LiDAR, バイオセンシング
2.3 産業適用状況：プラガブルトランシーバーは商用化、コパッケージは絶賛開発中
３．フォトニクスのパラダイムシフトへ(シリコンフォトニクスの将来展望）
3.1 パラダイムシフト：桁違いの量的変革＋インテリジェントなアーキテクチャ
3.2 物理的限界：加工誤差、キャリア移動度、光非線形効果、量子的限界
3.3 更なる量的変革：300mmウエハプロセス、適応型チューニング、異種材料集積、プラズモニクス
3.4 フォトニクスに適したアーキテクチャ： 光ニューラルネット、光演算アクセラレーター
４．シリコンフォトニクスの産業展開
4.1 自動化（実装、評価、設計）＆ファンドリー
4.2 産業エコシステム, R&Dエコシステム
５．シリコンフォトニクスR&Dエコシステム
5.1 産総研によるオープンイノベーション活動を例に
□質疑応答□
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。
- サイト内検索
- ページカテゴリ一覧
- 新着ページ
-
- 11/27 まで申込み受付中【オンデマンド配信】化学分野における特許出願戦略と強い明細書の作成 (2026年11月04日)
- 11/27 環境モニタリングにおけるポイント設定根拠・手順とアラート・アクションレベル設定の妥当性および汚染管理戦略に従ったSOP記載事項／作成上の留意点 (2026年11月04日)
- 11/30 中国における医薬品・原薬・添加剤・包装材料等の申請制度の要点とDMF（原薬等登録原簿）登録プロセスの実務 (2026年11月04日)
- 11/26 ISO 13485:2016規格要求事項現場と審査のギャップを埋める！箇条別・指摘頻出箇所の理解とQMSスリム化アプローチ (2026年11月04日)
- 12/17 医薬品の処方・剤型変更におけるBE試験回避の最新アプローチ (2026年11月04日)
- 12/11 逸脱・OOSを再発させない根本原因究明と実効性のあるCAPA (2026年11月04日)
- 11/24 医療機器ラベリングとUDI規制の実務 (2026年11月02日)
- 11/20 簡便化、抜け防止の観点をふまえたGMP SOP/製造指図記録書の形式・作成方法 (2026年11月02日)
- 11/27 石けん系洗浄料の基礎・処方設計皮膚科学－最新知見と今後の方向性 (2026年11月02日)
- 11/26 抗体薬物複合体（ADC）における結合・修飾技術と特性解析の実際 (2026年11月02日)
