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7/29 ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用

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エネルギー・環境・機械 表面科学：接着・コーティング 光学・照明・表示デバイス  / 2024年05月24日 /  化学・樹脂 電子・半導体
イベント名 ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用
開催期間 2024年07月29日（月）
13:00～16:30
会場名 受講可能な形式：【会場受講】のみ
会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5階 第1講習室
地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html
お申し込み期限日 2024年07月29日（月）13時
お申し込み受付人数 30  名様
お申し込み

ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用

ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）の基礎、

要素技術、実用例を解説

 

受講可能な形式：【会場受講】

　本セミナーでは、ＮＩＬの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を解説する。また、ロールトゥロール（RTR）NILやメタサーフェスおよびAR/MRグラスでのNILの応用状況についても概説する。
 

【得られる知識】

・ナノインプリントリソグラフィ（NIL）の基礎
・NILにおける金型作製技術
・NILにおける転写樹脂
・NILにおける応用例
・ロールトゥロール（RTR）NILによる転写例
・反射防止構造フィルムの量産例とその応用
・リソグラフィ用途の動向
・新技術動向、メタレンズ、AR/VRグラス 等 

 

 講師
 
 東京理科大学 先進工学部 電子システム工学科・教授　谷口 淳 氏

【その他 活動等】
　応用物理学会 ナノインプリント技術研究会 運営委員長
 
 セミナー趣旨
 
 　ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）は、ナノオーダーの金型転写技術であり、簡単な原理でナノパターンが得られる利点がある。また、最近は半導体露光装置への適用も期待されており、メタサーフェスやAR/VRグラスへの応用も進んでいる。このように、ＮＩＬは最先端の高付加価値の製品をリーゾナブルな価格で作製することができる。

　本講演では、ＮＩＬの基礎と要素技術を紹介した後、実用例等を紹介することで、今後の新製品のヒントが得られると考えている。また、ロールトゥロール（RTR）NILの説明も行い、反射防止構造フィルムの製造例なども紹介する。こちらもフィルムベースの新製品のヒントが得られると考えている。また、近年活発化しているメタサーフェスおよびAR/MRグラス等の状況も概説する。
 
 セミナー講演内容
 
１．はじめに
　1.1 ナノインプリントリソグラフィの現状
　1.2 ナノインプリントリソグラフィの実用例

２．ナノインプリントの基礎
　2.1 ナノインプリントの歴史
　2.2 ナノインプリントの要素技術
　2.3 ナノインプリントの各種方式
　2.4 ナノインプリントの位置づけ

３．ナノインプリントの応用技術
　3.1 ナノトランスファープロセス
　3.2 金属パターン転写

４．ロールトゥロール (RTR) ナノインプリント
　4.1 RTR NILの基礎
　4.2 反射防止構造（モスアイ構造）
　4.3 モスアイ構造の作製方法
　4.4 モスアイ構造の転写方法
　4.5 モスアイ構造の応用例

5.　将来展望
　5.1 メタサーフェス
　5.2 AR/MR グラス

6．まとめ

□ 質疑応答 □ 
 
※詳細・お申込みは上記

「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。

 

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