12/22,23 「フォトレジスト」と「次世代リソグラフィ」の 2セミナーセット申込みページ

　フォトレジスト材料は、ポジ型、ネガ型、化学増幅型、非化学増幅型などとして分類され、i線、G線、KrF、ArF、EB、およびEUV露光用レジスト材料として活用されている。高感度化をすること、すなわち、露光量を少なくさせることは、短時間でパタンニング処理を可能にし、生産性を上げることを可能にする。しかし、それだけではなく、レジストパタンの解像性を上昇させ、レジストパタンのラフネスの改善にも大きく貢献することになる。次世代レジストシステムとして、EUV露光システムが実用化段階に入っているが、最も研究開発が必要とされているのは、EUV用のレジスト材料の開発である。現在のところ、EUV露光システムの能力を十分に引き出せるとされるレジスト材料は未だない。新しいレジスト材料の開発は、様々なレジスト特性を評価検討する必要があるが、まずは少ない露光量でパタンニングが可能であること、すなわち高感度であることが最優先である。実際、EUV用レジスト材料においても、より高感度なレジスト材料の開発が急務とされている。                                                           
　本セミナーにおいて、露光システムに対応したレジスト材料の分子設計指針から、最新のEUV用レジスト材料の開発動向から、次世代の分子設計指針まで解説する。

＜プログラム＞
１．レジスト材料
　1.1 原理
　1.2 レジスト材料の例
　1.3 化学増幅型レジスト
２．ポジ型レジスト材料
　2.1 材料的な特性
　2.2 主な応用・用途
３．ネガ型レジスト材料
　3.1 材料的な特性
　3.2 主な応用・用途
４．高分子レジスト材料と低分子レジスト
　4.1 材料的な特性
　4.2 主な応用・用途
５．レジスト材料の評価方法と開発方法の実例
　5.1 レジスト材料の評価項目，評価手法について
　5.2 レジスト材料の評価方法と開発例
６．最新型レジスト材料
　6.1 メタルレジスト
　6.2 EB,EUV用レジスト材料

　　□ 質疑応答 □
 

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■２日目■　2025年12月23日(火) 13:00～17:00
次世代リソグラフィ技術の最新動向と今後の展望

＜セミナー講師＞
(国研)量子科学技術研究開発機構 高崎量子技術基盤研究所 先端機能材料研究部 プロジェクトリーダー(上席研究員)　山本 洋揮　氏

＜趣旨＞

　コンピュータ性能の更なる向上が要求されている半導体分野において、EUVリソグラフィが実現された。半導体微細加工技術であるEUVリソグラフィは、今後デジタル社会の構築において3次元微細加工技術と並んで極めて重要である。今後も更なる微細加工技術が要求されており、High-NAEUVリソグラフィなどをはじめ、次世代リソグラフィ技術が検討されている。

　本セミナーでは、EUVリソグラフィ技術を中心に、近年活発に研究開発がなされている次世代リソグラフィ技術におけるそれぞれの原理、技術動向、他のリソグラフィ技術と比較した際の優位点をはじめ、実用化・普及の可能性、その微細加工材料などに関する最新動向について概説するとともに、我々の最新の成果を解説する。

＜プログラム＞
１．はじめに
　１.1 リソグラフィ技術の変遷
　１.2 EUVリソグラフィの現状と課題
　１.3 EUVリソグラフィレジスト評価システム
　１.4 次世代リソグラフィ技術の動向
２．EBリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発例
　2.1 電子ビームリソグラフィの位置づけ
　2.2 電子ビームの散乱と阻止能
　2.3 電子線レジスト
　　2.3.1 電子線レジストの種類
　　2.3.2 化学増幅型レジストの酸発生機構
　　2.3.3 ラインエッジラフネス（LER）の原因の解明
　　2.3.4 反応機構に基づいたEBリソグラフィ用単一成分化学増幅型レジスト
３．EUVリソグラフィ技術の基礎とレジスト材料の開発例
　3.1 EUVリソグラフィの基礎
　3.2  EUVリソグラフィの現状と課題
　3.3 EUVレジスト
　　3.3.1 EUVレジストの種類
　　3.3.2 EUVリソグラフィ用レジスト材料の要求特性
　　3.3.3 EUV化学増幅型レジストの反応機構とEBレジスト設計指針との違い
　　3.3.4 EUV化学増幅型レジストの問題点
　3.4 EUVメタルレジスト開発
　　3.4.1 EUVリソグラフィ用メタルレジストの概要
　　3.4.2 放射線による金属ナノ粒子の形成メカニズムに基づいた有機無機ハイブリッドパターン形成
　　3.4.3 メタル化合物の添加によるEUVレジストの高感度化
　　3.4.4 メタルレジスト材料の性能評価
　　3.4.5 セラミックスレジストの性能評価
　3.5 次世代EUVリソグラフィ（High-NA、Hyper　NA,　EUV-FEL、Beyond EUV）の技術動向と今後の展望
４．ブロック共重合体を用いた自己組織化リソグラフィ技術の基礎と動向
　4.1 ブロック共重合体の基礎
　4.2 電子線誘起反応によるブロック共重合体のラメラ配向制御
　4.3 新規ブロック共重合体の合成と評価
５．ナノインプリントリソグラフィ技術の現状と動向
　5.1 ナノインプリントリソグラフィ技術の基礎
　5.2 ナノインプリントリソグラフィ技術の現状と動向
６．おわりに

　　□ 質疑応答 □