| イベント名 | 半導体・電子デバイス製造における 真空および薄膜形成・加工技術 |
|---|---|
| 開催期間 |
2026年02月06日（金）
10:00～17:00 ※会社・自宅にいながら受講可能です。 ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 【配布資料】 製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定) ※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、 セミナー資料の到着が開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。 |
| 会場名 | Live配信セミナー（リアルタイム配信） |
| 会場の住所 | オンライン |
| お申し込み期限日 | 2026年02月06日（金）10時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
半導体・電子デバイス製造における
真空および薄膜形成・加工技術
超高真空・真空装置設計・測定技術から蒸着・スパッタ・CVD・ALDによる成膜、ドライエッチングまで、基礎から応用、今後の展望までを徹底解説
「薄膜形成・加工技術」および「真空技術」の基礎と応用を1日で習得！
本セミナーでは、真空技術と薄膜形成技術（真空蒸着、スパッタリング、CVD、ALD）について、原理から装置設計のポイント、プロセス制御まで解説します。さらに、微細加工を担うドライエッチング技術や、成膜プロセスに不可欠なプラズマの基礎についても丁寧に取り上げます。真空の作り方・測定法、各成膜法の選択指針、プロセスパラメータの設計手法（アレニウスプロットやプロセスウィンドウ設計など）、さらには装置構築のポイントまで、現場で活きる知識が凝縮された内容です。
１．電子デバイスの製造に必要な薄膜形成技術を再確認する
２．薄膜の形成には真空プロセス（ドライプロセス）が必要であることを学ぶ
３．電子デバイスの製造向けの真空技術の基礎を学ぶ
４．薄膜形成技術（蒸着，スパッタリング，ＣＶＤ，ＡＬＤ）の基礎を学ぶ
５．薄膜加工技術（ドライエッチング）の基礎を学ぶ
６．プロセスプラズマの基礎を学ぶ
７．改めて今後の製造産業を考える
[キーワード] 電子デバイス，薄膜デバイス，製造技術，薄膜技術，真空技術，プロセス技術，プロセスプラズマ技術
これらの経験を活かし，特に電子デバイスの製造向け真空技術と薄膜形成技術をまとめ，
今回の講習会で得た知識を活かして，
| 講師 |
工学院大学 教育支援機構 特任教授 博士（理学） 関口 敦 氏
【専門】真空技術，薄膜形成，プラズマプロセス，ＰＶＤ，ＣＶＤ，ドライエッチング
| セミナー趣旨 |
シリコン半導体集積回路素子，化合物半導体機能素子，フラットパネルディスプレイ，固体撮像素子や発光ダイオードなどの電子デバイスによって私たちの生活は飛躍的に豊かになりました。これらの電子デバイスは真空技術を利用した薄膜形成技術によって製造されています。昨今，リスクマネジメントの観点から，これらの電子デバイスの製造を国内回帰する動きが強まっていて，改めて真空と薄膜形成に関する技術への期待が強まっています。
今回，この需要に応えるため電子デバイスの製造技術に使用されている「真空技術の基礎」および「薄膜形成技術の基礎」に関して解説します。特に真空蒸着，スパッタリング，ＣＶＤ，ＡＬＤによる薄膜形成技術（成膜技術）および薄膜を微細加工するドライエッチング技術の基礎を解説します。合わせて，これらの技術で使用する真空下のプロセスプラズマの基礎も解説します。
| セミナー講演内容 |
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。
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