イベント
| イベント名 | EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術 |
|---|---|
| 開催期間 |
2026年04月17日（金）
13:00～16:00 ※会社・自宅にいながら受講可能です。 ※講義の録音・録画・撮影はご遠慮ください。 ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。 【配布資料】 ・製本テキスト(開催前日着までを目安に発送) ※セミナー資料は開催日の４～５日前にお申し込み時のご住所へ発送致します。 ※間近でのお申込みの場合、セミナー資料の到着が開催日に間に合わないことがございます。 |
| 会場名 | ライブ配信セミナー（リアルタイム配信） |
| 会場の住所 | オンライン |
| お申し込み期限日 | 2026年04月17日（金）13時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
EUVレジスト材料開発と評価・プロセス技術
EUVリソグラフィーの基礎とプロセス最適化方法・評価方法
「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026」で発表された
EUVに関する最新技術も紹介予定
本セミナーでは、EUVレジストの概要とその評価方法に関する基礎知識、EUVリソグラフィーの基礎知識、EUVフォトプロセスの最適化方法、評価方法について解説する。
「SPIE Advanced Lithography + Patterning 2026」(2026年2月23日～26日 US カリフォルニアSanJoseで開催)の聴講報告も行う予定。
| 講師 |
大阪公立大学 大学院 工学研究科 客員教授 関口 淳 氏
| セミナー趣旨 |
情報システム社会の発展は目覚ましく、パーソナルコンピュータは今や一人一台を所有する。最近では、スマートフォンが手のひらコンピューティングを可能にするなど、私たちの生活を劇的に変えている。また 、取り扱うデータ量も増大しており、ビッグデータと呼ばれる単一のデータ集合内で数十テラバイトから数ペタバイトの範囲のデータをやり取りする時代が到来している。そこに、IoT(Internet of Things) やIoE(Internet of Everything) と呼ばれる、すべての「モノ」がインターネットにつながることで、自動認識や自動制御、遠隔計測などを行うことが発展してきている。
これらの発展はメモリやCPU(中央演算処理装置 ) 等の半導体電子デバイスの技術革新によって支えられており、この電子デバイスの技術 革新は 半導体微細加工技術の進展によるものである。現在は、EUVリソグラフィー技術により、20nmレベルの微細加工が可能となっており、本講座では、このEUVリソグラフィー技術の概要とプロセス評価技術について解説する。
| セミナー講演内容 |
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。
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