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10/21 <AIサーバ用電源/自動車の電動化に向けた>シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向

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エレクトロニクス 化学・材料  / 2026年10月19日 /  電子・半導体
イベント名 <AIサーバ用電源/自動車の電動化に向けた>シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向
開催期間 2026年10月21日(水)
10:30~16:30

【見逃し配信の視聴期間】
開催翌営業日から7日間[10/22~10/28中]を予定
※動画は未編集のものになります。
※視聴ページは、開催翌営業日にマイページへリンクを設定します。
※会社・自宅にいながら受講可能です。

※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

■配布資料
PDFデータ(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、主催会社様HPのS&T会員マイページよりダウンロード可となります。
会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き
会場の住所 オンライン
お申し込み期限日 2026年10月21日(水)10時
お申し込み受付人数 30  名様
お申し込み

<AIサーバ用電源/自動車の電動化に向けた>シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向

■パワー半導体デバイス、パッケージの最新技術動向■
■Si-IGBTの強み、SiC/GaNパワーデバイスの特長と課題■
■パワー半導体デバイス、SiC/GaN市場予測■
■シリコンIGBT、SiCデバイス実装技術。SiC/GaNデバイス特有の設計、プロセス技術■

受講可能な形式:【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ

受講料(税込):55,000円

\お得な割引キャンペーン実施中!/
詳細・お申し込みは「お申し込みはこちらから」よりご確認ください。

【オンライン配信】
ライブ配信 ►受講方法・接続確認(申込み前に必ずご確認ください)
アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認(申込み前に必ずご確認ください)

セミナー視聴はマイページから
お申し込み後、マイページの「セミナー資料ダウンロード/映像視聴ページ」に
お申込み済みのセミナー一覧が表示されますので、該当セミナーをクリックしてください。
(アーカイブ配信は、配信日に表示されます。)


★ Zoom見逃し配信(アーカイブ)のみの受講も可。
★ AIサーバ電源やxEVの性能を左右するパワーデバイスの最新動向とは!?

講師

筑波大学 数理物質系 教授 岩室 憲幸 氏
<主なご経歴・研究内容など>
1984年 早稲田大学理工学部卒、1998年 博士(工学)(早稲田大学)
富士電機株式会社に入社。
1988年から現在までパワーデバイスシミュレーション技術、IGBT、ならびにWBGデバイス研究、開発、製品化に従事。
1992年 North Carolina State Univ. Visiting Scholar. MOS-gate thyristorの研究に従事。
1999年-2005年 薄ウェハ型IGBTの製品開発に従事。
2009 年5月-2013年3月 (国研)産業技術総合研究所。SiC-MOSFET、SBDの研究,量産技術開発に従事。
2013年4月- 国立大学法人 筑波大学 教授。現在に至る。
IEEE Senior Member, 電気学会上級会員、応用物理学会会員
著書・監修多数
<受賞>
1 日経エレクトロニクス パワーエレクトロニクスアワード2020 最優秀賞 (2020年12月)
2 電気学会 第23回優秀活動賞 技術報告賞 (2020年4月)
3 電気学会 優秀技術活動賞 グループ著作賞(2011年)
<専門>
シリコン、SiCパワー半導体設計、解析技術
<WebSite>
http://power.bk.tsukuba.ac.jp/
https://youtu.be/VjorIIacez0

セミナー趣旨

2026年、世界はAIデータセンター電源の高効率・大容量化と、自動車電動化(xEV)の再加速に向けて大きく動いている。AIサーバ電源やxEVの性能を左右する中核部品であるパワーデバイスでは、SiC・GaNデバイスが次世代の本命として急速に存在感を高めている。すでに実機搭載も進みつつあり、今後はシリコンMOSFET・IGBTをどこまで凌駕できるかが焦点となる。
 鍵を握るのは、性能・信頼性・コストという三要素に対し、新材料デバイスがどのように市場要求へ応えていくかである。本セミナーでは、SiC/GaN技術の現状と今後の動向を整理し、さらに注目を集める酸化ガリウム(Ga₂O₃)デバイスの可能性、実装技術、そして市場予測までを、わかりやすくかつ丁寧に解説する。

セミナー講演内容

1.パワーエレクトロニクス(パワエレ)とはなに?
 1-1 パワエレ&パワーデバイスの仕事
 1-2 パワー半導体の種類と基本構造
 1-3 パワーデバイスの適用分野
 1-4 AIデーターサーバ電源、xEV向けパワーデバイス最近のトピックス
 1-5 シリコンMOSFET・IGBTの伸長
 1-6 ノーマリ-オフ・ノーマリーオン特性とはなに?
 1-7 パワーデバイス開発のポイント

2.最新シリコンパワーMOSFETとIGBTの進展と課題
 2-1 パワーデバイス市場の現在と将来
 2-2 MOSFET特性改善を支える技術
 2-3 IGBT特性改善を支える技術
 2-4 IGBT薄ウェハ化の限界
 2-5 MOSFET・IGBT特性改善の次の一手
 2-6 シリコンIGBTの実装技術

3.SiCパワーデバイスの現状と課題
 3-1 半導体デバイス材料の変遷
 3-2 ワイドバンドギャップ半導体とは?
 3-3 なぜSiCパワーデバイスが新材料パワーデバイスでトップランナなのか
 3-4 各社はSiC-IGBTではなくSiC-MOSFETを開発する。なぜか?
 3-5 SiC-MOSFETの勝ち筋
 3-6 SiC-MOSFETの普及拡大のために解決すべき課題
 3-7 SiC MOSFETコストダウンのための技術開発
 3-8 低オン抵抗化がなぜコストダウンにつながるのか
 3-9 SiC-MOSFET内蔵ダイオードのVf劣化とは?
 3-10 内蔵ダイオード信頼性向上技術

4.GaNパワーデバイスの現状と課題
 4-1 なぜGaNパワーデバイスなのか?
 4-2 GaNデバイスの構造
 4-3 SiCとGaNデバイスの狙う市場
 4-4 GaNパワーデバイスはHEMT構造。その特徴は?
 4-5 GaN-HEMTのノーマリ-オフ化
 4-6 GaN-HEMTの最新技術動向(高耐圧化へ向けて)
 4-7 縦型GaNデバイスの最新動向

5.酸化ガリウムパワーデバイスの現状
 5-1 酸化ガリウムの特徴は何
 5-2 最近の酸化ガリウムパワーデバイスの開発状況

6.SiCパワーデバイス実装技術の進展
 6-1 SiC-MOSFETモジュールに求められるもの
 6-2 銀または銅焼結接合技術
 6-3 SiC-MOSFETモジュール技術

7.まとめ

  □質疑応答□​

※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」(遷移先WEBサイト)よりご確認ください。

※満席・日程終了などで参加が難しい場合は、下記「お問い合わせ」ボタンより再開催のリクエストを承っております

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