9/20 半導体製造プロセス入門講座 ～基礎とトラブル対策～

アドヒージョン株式会社 代表取締役社長　河合 晃　氏
国立大学法人長岡技術科学大学 名誉教授　博士(工学)　

【講師紹介】
　三菱電機（株）ULSI研究所にて10年間勤務し、製品開発・試作・量産移管・歩留り・工場管理の業務に従事し、高精度なレジストリソグラフィー技術開発に従事した。その後、長岡技術科学大学にて勤務し、機能性薄膜、表面界面制御、ナノデバイスなどの先端分野の研究を実施してきた。各種論文査読委員、NEDO技術委員、国および公的プロジェクト審査員などを歴任。現在、技術コンサルティング会社として、アドヒージョン（株）代表取締役社長を務める。著書33件、受賞多数、原著論文166報、国際学会124件、特許多数、講演会200回以上、日本接着学会評議員、応用物理学会会員、産学連携・技術コンサルティング実績150社以上。

【講師WebSite】
http://www.adhesion.co.jp

　近年、世界の半導体市場は急速に拡大しており、我国でも国家戦略的な重要産業として位置づけられています。また、高機能デバイスの製造プロセスには、高い技術水準と競争力が求められています。これらのプロセス技術の基礎を幅広く理解することにより、各種トラブルへの対処および効率的な技術開発が可能となり、歩留まり改善や生産性向上へと繋がると考えます。
　本セミナーでは、半導体デバイス製造に携わる技術者の方々を対象に、各基本プロセスの主要技術や最適化事例について概説します。また、各工程で生じる代表的なトラブル事例と対策を紹介します。初めて半導体プロセスに関わる方々の入門講座としても適しています。本セミナーでは、受講者の方々の日頃のトラブル相談・技術開発相談にも応じます。

１．各種半導体デバイスの基礎
　　（半導体産業の特徴、各種デバイス概論、歩留まり）
２．デバイス加工の最適化
　　（回路設計、シフト量、ハイブリッド処理）
３．半導体基板
　　（単結晶、多結晶、薄膜化）
４．前処理
　　（クリーンネス、RCA洗浄、致命欠陥、表面エネルギー）
５．酸化
　　（Deal-Grove理論、酸化種、エリンガム図）
６．不純物導入
　　（拡散法、イオン注入法、LSS理論、アニーリング）
７．薄膜形成
　　（VWDB核生成理論、めっき、蒸着、スパッタ、LP-CVD）
８．リソグラフィー（１）
　　（レジスト技術、レイリーの式、重ね合わせ）
９．リソグラフィー（２）
　　（ウエット／ドライエッチング、レジスト除去）
１０．配線技術
　　　（多層配線、マイグレーション）
１１．保護膜形成
　　　（CMP技術、透湿性）
１２．実装技術
　　　（CIP、Pbフリーはんだ、Au/Alワイヤーボンディング）
１３．パッシベーション
　　　（ソフトエラー、セラミック、モールド）
１４．信頼性評価
　　　（活性化エネルギー、アレニウス則、ワイブル分布、寿命評価）
１５．クリーンルーム管理
　　　（浮遊微粒子、フィルタリング、動線制御）
１６．プロセスシミュレーション
　　　（コーティング、気流、応力集中、電流分布など）
１７．製造ライン管理の実際
　　　（タクトタイム、歩留まり、月産量見積もり、コスト計算など）
１８．質疑応答
　　　（日頃のトラブル・研究開発相談にも応じます）

参考資料
・塗膜トラブルQ&A事例集（トラブルの最短解決ノウハウ）
・表面エネルギーによる濡れ・付着性解析（測定方法）

キーワード：半導体プロセス、基板、クリーン化、微細加工、成膜、配線技術、信頼性、パッケージング、シミュレーション、歩留まり改善、ライン運営管理、クリーンルーム

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