「電気・電子・半導体・通信」一覧
すべてのページカテゴリ一覧
»
「電気・電子・半導体・通信」に関するページ
-
イベント名 最先端ドライエッチング技術 開催期間 2024年01月26日（金）
13:00～16:30
会場名 受講可能な形式：【会場受講】のみ 会場の住所 東京都千代田区神田駿河台3-2-11 連合会館 4F 402会議室 地図 https://www.science-t.com/hall/16432.html お申し込み期限日 2024年01月26日（金）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
最先端ドライエッチング技術～ドライエッチングのプロと装置・コンポーネント・材料メーカーエンジニアのための特別講座～～GAAエッチング、クライオエッチング、アトミックレイヤーエッチングを含む最先端ドライエ… -
【技術書籍】パワーモジュールの高性能化を支える高耐熱・高信頼性材料と実装技術
パワーモジュールの高性能化を支える高耐熱・高信頼性材料と実装技術～xEV向けに採用・市場が拡大するSiCパワーモジュールで求められる技術を整理～～高温動作・損失低減・小型化などへの対応に向けた構成材料・実装… -
11/28 シリコン・パワー半導体における CMPの技術動向
イベント名 シリコン・パワー半導体における CMPの技術動向 開催期間 2023年11月28日（火） ～ 2023年12月07日（木）
【Live配信】2023年11月28日（火）10:30～16:30
【アーカイブ配信】2023年12月7日（木）まで受付
(視聴期間：12/7～12/20）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2023年12月07日（木）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
シリコン・パワー半導体におけるCMPの技術動向～化学機械研磨技術の基礎と最新動向～■CMP技術の基礎的な内容■■半導体プロセスにおけるCMPの適用例■■パワー半導体の基板製造技術■ 受講可能な形式：【Live配信】… -
1/30 電子デバイス分野における 静電気対策の基礎と効果的な対策方法および最新動向
イベント名 電子デバイス分野における 静電気対策の基礎と効果的な対策方法および最新動向 開催期間 2024年01月30日（火）
13:00～17:15
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 Live配信セミナー（リアルタイム配信） 会場の住所 東京都 お申し込み期限日 2024年01月30日（火）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
電子デバイス分野における静電気対策の基礎と効果的な対策方法および最新動向～半導体・液晶・シート材・PC基板等の各種製造工程における問題と対策まで～～実演や実験を含めて分かりやすく解説～ 受講可能な形式：… -
11/24 ＜カーボンニュートラルへ電動化のコア技術＞ 電動化（EV駆動等）モータと 回路基板の高電圧化・高周波化・熱対策に向けた、 樹脂材料開発と絶縁品質評価技術
イベント名 ＜カーボンニュートラルへ電動化のコア技術＞ 電動化（EV駆動等）モータと 回路基板の高電圧化・高周波化・熱対策に向けた、 樹脂材料開発と絶縁品質評価技術 開催期間 2023年11月24日（金）
10:00～17:00
【アーカイブの視聴期間】
2023年11月25日(土)～12月1日(金)まで
このセミナーはアーカイブ付きです。
セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2023年11月24日（金）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜カーボンニュートラルへ電動化のコア技術＞電動化（EV駆動等）モータと回路基板の高電圧化・高周波化・熱対策に向けた、樹脂材料開発と絶縁品質評価技術■部分放電現象とは？■ ■繰り返しインパルスによる部分放… -
11/27 ドライエッチング技術の基礎と 原子層エッチング（ALE）の最新技術動向
イベント名 ドライエッチング技術の基礎と 原子層エッチング（ALE）の最新技術動向 開催期間 2023年11月27日（月） ～ 2023年12月06日（水）
【Live配信】2023年11月27日（月）10:30～16:30
【アーカイブ配信】2023年12月6日（水）から配信開始
（視聴期間：12/6～12/19）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2023年12月06日（水）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング（ALE）の最新技術動向■最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術■■原子層エッチング（ALE：アトミックレイヤーエッチング）技術■■プラズマＣＶＤ、… -
12/1 スパッタリング法の総合知識とトラブルシューティング
イベント名 スパッタリング法の総合知識とトラブルシューティング 開催期間 2023年12月01日（金） ～ 2023年12月11日（月）
【Live配信】2023年12月1日（金）10:00～16:30
【アーカイブ配信】2023年12月11日（月）から配信開始予定
（視聴期間：12/11～12/22）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2023年12月11日（月）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
スパッタリング法の総合知識とトラブルシューティング～物理現象の理解、分析・評価、特性安定化、密着性・信頼性の確保～ 受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみスパッタリング法に関する知識を一… -
12/13 プラズモニクス・メタマテリアルの基礎と作製技術 および先端応用の研究動向
イベント名 プラズモニクス・メタマテリアルの基礎と作製技術 および先端応用の研究動向 開催期間 2023年12月13日（水）
10:30～16:30
会場名 受講可能な形式：【会場受講】のみ 会場の住所 東京都品川区大井町5-18-1 きゅりあん 4階 研修室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2023年12月13日（水）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
プラズモニクス・メタマテリアルの基礎と作製技術および先端応用の研究動向 受講可能な形式：【会場受講】★ポイント１：今年は会場・対面形式で開催します！セミナー終了後の技術相談も募集していますので、ぜひお… -
12/22 xEVのPCU(パワーコントロールユニット)と 自動車用パワーエレクトロニクスの技術動向
イベント名 xEVのPCU(パワーコントロールユニット)と 自動車用パワーエレクトロニクスの技術動向 開催期間 2023年12月22日（金）
13:00～16:30
会場名 受講可能な形式：【会場受講】のみ 会場の住所 東京都品川区大井町5-18-1 きゅりあん 5階 第3講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2023年12月22日（金）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
xEVのPCU(パワーコントロールユニット)と自動車用パワーエレクトロニクスの技術動向インバータ、DCDCコンバータ、OBC(車載充電器)、PCUの冷却技術…etc. 受講可能な形式：【会場受講】 本セミナーでは、PCU(パワーコ… -
1/29 半導体デバイスにおける 洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題
イベント名 半導体デバイスにおける 洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題 開催期間 2024年01月29日（月）
13:00～16:30
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 Live配信セミナー（リアルタイム配信） 会場の住所 東京都 お申し込み期限日 2024年01月29日（月）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
半導体デバイスにおける洗浄技術の基礎と技術動向と今後の課題～洗浄メカニズムと歩留低下技術・汚染制御技術・次世代の洗浄技術～ 受講可能な形式：【Live配信】のみ微細化が止まらない半導体技術に伴い、重要性が…
- サイト内検索
- ページカテゴリ一覧
- 新着ページ
-
- 5/28 においの測定・評価の基礎 (2026年04月21日)
- 5/28 高分子レオロジー特性の理解と高分子材料複合化設計への活用 (2026年04月21日)
- 5/21 タイ分子の基礎と分子制御、高次構造制御、評価と応用 (2026年04月21日)
- 5/20 溶融製膜/溶液製膜によるフィルム成形技術の基礎と実際 (2026年04月21日)
- 6/30 プラスチック製品の強度設計材料力学の基礎とトラブルを防ぐ実務ノウハウ (2026年04月21日)
- 7/10 粘着・剥離現象の基礎と可視化実験・モデリング (2026年04月20日)
- 6/23 高分子溶液の構造形成・構造解析と物性設計・構造制御の指針 (2026年04月20日)
- 6/16 人の感覚・運動モデリング技術と使いやすさを考慮した製品設計への応用 (2026年04月20日)
- 5/20 接触熱抵抗の基礎と予測・計測技術－予測値と実測値の乖離から整理する課題と適用指針－ (2026年04月20日)
- 6/29 ALDの基礎と原料の分子設計、成膜プロセス、最新トレンド (2026年04月16日)
