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1/28,29 注目の2セミナーのセット申込みページ 「ライトフィールドディスプレイ」と「空中ディスプレイ」
イベント名 注目の2セミナーのセット申込みページ 「ライトフィールドディスプレイ」と「空中ディスプレイ」 開催期間 2026年01月28日（水） ～ 2026年01月29日（木）
【1日目】 2026年1月28日（水） 10:30～16:30
【2日目】 2026年1月29日（木） 13:00～16:30
■ライブ配信受講に加えて、見逃し配信(アーカイブ)でも１週間視聴できます■
【１日目の見逃し配信の視聴期間】
2026年1月29日(木)～2月4日(水)まで
【２日目の見逃し配信の視聴期間】
2026年1月30日(金)～2月5日(木)まで
※このセミナーは見逃し配信付です。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※視聴期間は終了翌日から7日間を予定しています。また録画データは原則として編集は行いません。
※マイページからZoomの録画視聴用リンクにてご視聴いただきます。
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
＜1日目：ライトフィールドディスプレイ＞
PDFデータ(印刷可・編集不可)
※印刷物の送付はありません。開催2日前を目安に、S＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。
＜2日目：空中ディスプレイ＞
製本テキスト
※開催日の4・5日前に発送予定。開催直前にお申込みの場合、セミナー資料の到着が間に合わないことがございます。Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年01月28日（水）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
注目の2セミナーのセット申込みページ「ライトフィールドディスプレイ」と「空中ディスプレイ」【１日目：1/28】ライトフィールドカメラ／ライトフィールドディスプレイの基礎と最新動向【２日目：1/29】空中結像の… -
イベント名 二次元物質の基礎と 半導体デバイスへの応用と展開 開催期間 2026年03月26日（木）
13:00～16:30
【見逃し配信の視聴期間】
2026年3月27日(金)～4月2日(木)まで
※このセミナーは見逃し配信付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※ライブ配信を欠席し見逃し視聴のみの受講も可能です。
※動画は未編集のものになります。
※視聴ページは、開催翌営業日の午前中には、マイページにリンクを設定する予定です。
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承ください。Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年03月26日（木）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
二次元物質の基礎と半導体デバイスへの応用と展開微細化・高集積化の限界突破に向けた、次世代半導体材料技術としての二次元物質の可能性 受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ 【オンライン配信】Zoom… -
2/19 ペロブスカイト太陽電池の 高効率化・高耐久性化技術と今後の展望
イベント名 ペロブスカイト太陽電池の 高効率化・高耐久性化技術と今後の展望 開催期間 2026年02月19日（木）
13:00～16:30
【見逃し配信の視聴期間】
2026年2月20日(金)～2月26日(木)まで
※このセミナーは見逃し配信付です。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※視聴期間は終了翌日から7日間を予定しています。また録画データは原則として編集は行いません。
※マイページからZoomの録画視聴用リンクにてご視聴いただきます。
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
PDFデータ(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、S＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年02月19日（木）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ペロブスカイト太陽電池の高効率化・高耐久性化技術と今後の展望 受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ【カーボンニュートラル応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク 【オン… -
4/23 ＜耐熱性と相反する特性の両立へ！＞ エポキシ樹脂の耐熱性向上と機能性両立への 分子デザイン設計および用途展開における最新動向 ～主に電気電子材料用向けに解説～
イベント名 ＜耐熱性と相反する特性の両立へ！＞ エポキシ樹脂の耐熱性向上と機能性両立への 分子デザイン設計および用途展開における最新動向 ～主に電気電子材料用向けに解説～ 開催期間 2026年04月23日（木）
10:30～16:30
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開催日に間に合わないことがございます。
Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。会場名 ライブ配信セミナー（リアルタイム配信） 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年04月23日（木）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜耐熱性と相反する特性の両立へ！＞エポキシ樹脂の耐熱性向上と機能性両立への分子デザイン設計および用途展開における最新動向～主に電気電子材料用向けに解説～■分子構造と硬化性の関係■ ■耐熱性向上技術■■… -
3/18 透明導電材料/膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向
イベント名 透明導電材料/膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向 開催期間 2026年03月18日（水） ～ 2026年04月03日（金）
【ライブ配信】
2026年3月18日（水）13:00～16:30
【アーカイブ配信】
2026年4月3日（金） まで申込み受付
（視聴期間：4/3～4/16）
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
※アーカイブ配信受講の場合は配信開始日(4/25)からダウンロード可となります。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年04月03日（金）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
透明導電材料/膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向ITO系・PEDOT/PSS系塗布型透明導電膜の材料設計と応用事例タッチパネル・EMC対策・太陽電池への応用展開などについて解説 受講可能な形式：【ライブ配信(アーカイ… -
3/13まで申込み受付中 【オンデマンド配信】 特許情報からみた メタマテリアル／メタサーフェスが促す 光／電子デバイス材料設計の新潮流［2024］
イベント名 【オンデマンド配信】 特許情報からみた メタマテリアル／メタサーフェスが促す 光／電子デバイス材料設計の新潮流［2024］ 開催期間 2026年03月13日（金）
23:59まで申込受付中
／映像時間：4時間44分
／収録日：2024年10月30日（水）
（期間中は何度でも視聴可）
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※WEBセミナーの録音・撮影、複製は固くお断りいたします。
※講師の所属などは、収録当時のものをご案内しております。
【配布資料】
製本テキスト
※セミナー資料はお申込み時にご指定の住所へ発送させていただきます。
※申込み日から営業日3日までに発送いたします。
講師メールアドレスの掲載：有会場名 【オンデマンド配信】※期間中は、何度でも・繰り返し視聴可能です。 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年03月13日（金）23時 お申し込み
【オンデマンド配信】特許情報からみたメタマテリアル／メタサーフェスが促す光／電子デバイス材料設計の新潮流［2024］太陽電池 5G／6G 光インターコネクション 電力伝送 LiDAR 遮音／吸音 etc.各種分野で既存材料… -
イベント名 チップレット実装における接合技術動向 開催期間 2026年03月24日（火）
13:00～14:15
※会社・自宅にいながら受講可能です。
【配布資料】
PDFデータ（印刷可）
弊社HPマイページよりダウンロードいただきます（開催2日前を目安にDL可となります）。会場名 ライブ配信セミナー（リアルタイム配信） 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年03月24日（火）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
チップレット実装における接合技術動向 受講可能な形式：【ライブ配信】 【オンライン配信】Zoomによるライブ配信 ►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）・セミナー視聴はマイページから お申し込み… -
3/27,4/17 半導体製造における シリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術 および洗浄・乾燥技術：基礎から最新動向まで 2か月連続セミナー
イベント名 半導体製造における シリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術 および洗浄・乾燥技術：基礎から最新動向まで 2か月連続セミナー 開催期間 2026年03月27日（金） ～ 2026年04月17日（金）
【クリーン化・歩留向上技術：会場受講】
きゅりあん 4F 第1特別講習室
2026年3月27日（金） 10:00～17:00
【クリーン化・歩留向上技術：Live配信】
2026年3月27日（金） 10:00～17:00
【洗浄・乾燥技術：会場受講】
きゅりあん 5F 第3講習室
2026年4月17日（金） 10:00～17:00
【洗浄・乾燥技術：Live配信】
2026年4月17日（金） 10:00～17:00
※会場受講のみ昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中の会場でのパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト
■会場受講：会場にて直接お渡しします。
■Live配信受講：開催日の4、5日前に発送予定
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
視聴画面ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
※なお、セミナー毎の配布になります。会場名 【会場受講】もしくは【ライブ配信受講】 会場の住所 東京都東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2026年03月27日（金）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術：基礎から最新動向まで2か月連続セミナー3月27日(金)クリーン化・歩留向上技術編 ／ 4月17日(金)洗浄・乾燥技術編 受講可能… -
3/27 ＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞ 半導体製造ラインの汚染の実態と 歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の 基礎から最新動向まで
イベント名 ＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞ 半導体製造ラインの汚染の実態と 歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の 基礎から最新動向まで 開催期間 2026年03月27日（金）
【会場受講】2026年3月27日（金）10:00～17:00
【ライブ配信】2026年3月27日（金）10:00～17:00
※会場受講のみ昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中の会場でのパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト
■会場受講：会場にて直接お渡しします。
■ライブ配信受講：開催日の4、5日前に発送予定
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
視聴画面ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。会場名 【会場受講】もしくは【ライブ配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 4F 第1特別講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2026年03月27日（金）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式：【会場受講】or【ライブ配信】のみ 【オンライン配信… -
4/17 ＜半導体洗浄・乾燥技術＞ 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで
イベント名 ＜半導体洗浄・乾燥技術＞ 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2026年04月17日（金）
【会場受講】2026年4月17日（金）10:00～17:00
【ライブ配信】2026年4月17日（金）10:00～17:00
※会場受講のみ昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中の会場でのパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト
■会場受講：会場にて直接お渡しします。
■ライブ配信受講：開催日の4、5日前に発送予定
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
視聴画面ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。会場名 【会場受講】もしくは【ライブ配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5F 第3講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2026年04月17日（金）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜半導体洗浄・乾燥技術＞半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式：【会場受講】or【ライブ配信】のみ 【オンライン配信】Zoomによるライブ配…
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