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2/26 熱伝導性フィラーの充填・表面処理技術と ポリマー系コンポジットの開発、 微視構造設計・特性評価技術
イベント名 熱伝導性フィラーの充填・表面処理技術と ポリマー系コンポジットの開発、 微視構造設計・特性評価技術 開催期間 2025年02月26日（水） ～ 2025年03月13日（木）
【ライブ配信】 2025年2月26日（水） 13:00～16:30
【アーカイブ配信】 2025年3月13日（木）まで受付
（視聴期間：3/13～2/27）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年03月13日（木）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
熱伝導性フィラーの充填・表面処理技術とポリマー系コンポジットの開発、微視構造設計・特性評価技術～フィラーの最密充填、ハイブリッド化による伝熱ネットワーク構造形成技術～ 受講可能な形式：【ライブ配信】or… -
2/20 AI時代のデータセンターが抱える 熱問題の現状・課題と 冷却技術による対策動向および今後の展望
イベント名 AI時代のデータセンターが抱える 熱問題の現状・課題と 冷却技術による対策動向および今後の展望 開催期間 2025年02月20日（木）
13:00～16:30
【アーカイブの視聴期間】
視聴期間：2/21～2/28の8日間
※アーカイブは原則として編集は行いません
※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。
(開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年02月20日（木）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
AI時代のデータセンターが抱える熱問題の現状・課題と冷却技術による対策動向および今後の展望熱処理入門、放熱材料・システム、液浸冷却の特徴、空冷と水冷のハイブリッド、空調、省エネ技術 etc. 受講可能な形式：… -
2/27 チップレット集積の要素技術と実用化に向けた開発動向
イベント名 チップレット集積の要素技術と実用化に向けた開発動向 開催期間 2025年02月27日（木） ～ 2025年03月11日（火）
【Live配信】2025年2月27日（木） 13:30～15:00
【アーカイブ配信】 2025年3月11日（火）まで受付
(視聴期間：3/11～3/25）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年03月11日（火）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
チップレット集積の要素技術と実用化に向けた開発動向3D集積・光集積技術を含むチップレット集積の最新トレンドと産業化動向 受講可能な形式：【Live配信】or 【アーカイブ配信】のみ90分で学ぶ！チップレット集積の… -
2/27 リチウムイオン電池の負極活物質 基礎から次世代材料まで
イベント名 リチウムイオン電池の負極活物質 基礎から次世代材料まで 開催期間 2025年02月27日（木）
13:00～16:30
【アーカイブの視聴期間】
視聴期間：セミナー終了の翌営業日から7日間［2/28～3/6］を予定しています。
※アーカイブは原則として編集は行いません。
※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。
(開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年02月27日（木）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
リチウムイオン電池の負極活物質基礎から次世代材料まで 受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】 ●リチウムイオン電池の負極材料にフォーカスして解説●現行の材料・電極技術・製造工程から、シリコン系・… -
2/19 ベイズ統計及びベイズモデリングの 基本的な考え方とその実践・活用
イベント名 ベイズ統計及びベイズモデリングの 基本的な考え方とその実践・活用 開催期間 2025年02月19日（水） ～ 2025年03月07日（金）
【ライブ配信】2025年2月19日（水）10:30～16:30
【アーカイブ配信】 2025年3月7日（金）まで受付
(視聴期間：3/7～3/21）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年03月07日（金）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ベイズ統計及びベイズモデリングの基本的な考え方とその実践・活用～ベイズ統計の基本、各モデルの理解、データ分析・予測の実践～ 受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ多種多様なデータを分析… -
2/26 高分子材料（樹脂・ゴム材料）における ブリードアウト＆ブルーム現象の発生メカニズムの解明と 防止・対策技術
イベント名 高分子材料（樹脂・ゴム材料）における ブリードアウト＆ブルーム現象の発生メカニズムの解明と 防止・対策技術 開催期間 2025年02月26日（水） ～ 2025年03月13日（木）
【ライブ配信】 2025年2月26日（水）10:30～16:30
【アーカイブ配信】 2025年3月13日（木）まで受付
(視聴期間：3/13～3/27）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年03月13日（木）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
高分子材料（樹脂・ゴム材料）におけるブリードアウト＆ブルーム現象の発生メカニズムの解明と防止・対策技術～配合添加剤、高分子材料中の成分が引き起こす異常・劣化・変質・不良を無くしていくために～ 受講可能… -
2/28 国内外規制をふまえた E&L（Extractables & Leachables）評価基準の考え方と 分析・評価方法
イベント名 国内外規制をふまえた E&L（Extractables & Leachables）評価基準の考え方と 分析・評価方法 開催期間 2025年02月28日（金）
2025年2月28日（金）ごろ配信予定
（視聴期間：2/28～3/14）
／視聴時間：約5時間
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Webセミナー（アーカイブ配信）】のみの開催です。 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年02月28日（金）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
国内外規制をふまえたE&L（Extractables & Leachables）評価基準の考え方と分析・評価方法取り組み方を徹底解説 【入門講座】 受講可能な形式：【アーカイブ配信】のみE＆Lの基礎知識、分析手法、リスクマネジメント… -
2/25 〔初中級プロセス開発研究担当者にむけた〕 実際に起こった不具合や解決方法、注意点で学ぶ スケールアップ・ダウン検討および 実験計画の進め方・データのとり方、操作の簡略化
イベント名 〔初中級プロセス開発研究担当者にむけた〕 実際に起こった不具合や解決方法、注意点で学ぶ スケールアップ・ダウン検討および 実験計画の進め方・データのとり方、操作の簡略化 開催期間 2025年02月25日（火） ～ 2025年03月11日（火）
【Live配信受講】2025年2月25日（火）10:30～16:30
【アーカイブ配信受講】2025年3月11日（火）まで受付
（配信期間：3/11～3/25）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年03月11日（火）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
〔初中級プロセス開発研究担当者にむけた〕実際に起こった不具合や解決方法、注意点で学ぶスケールアップ・ダウン検討および実験計画の進め方・データのとり方、操作の簡略化【1】開発初期（実験室～20Lスケール）の… -
3/24 ＜半導体洗浄・乾燥技術＞ 半導体製造におけるシリコンウェーハの洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで
イベント名 ＜半導体洗浄・乾燥技術＞ 半導体製造におけるシリコンウェーハの洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2025年03月24日（月）
【会場受講】 2025年3月24日（月） 10:00～17:00
【Live配信】 2025年3月24日（月） 10:00～17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場受講】もしくは【Live配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5F 第4講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2025年03月24日（月）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜半導体洗浄・乾燥技術＞半導体製造におけるシリコンウェーハの洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式：【会場受講】or【Live配信】のみシリコンウェーハ上の汚染物質をいかに除去す… -
2/27 ＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞ 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のための シリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで
イベント名 ＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞ 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のための シリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2025年02月27日（木）
【会場受講】 2025年2月27日（木） 10:00～17:00
【Live配信】 2025年2月27日（木） 10:00～17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場受講】もしくは【Live配信受講】 会場の住所 東京都千代田区神田駿河台3-2-11 連合会館 4F 401会議室 地図 https://www.science-t.com/hall/16432.html お申し込み期限日 2025年02月27日（木）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式：【会場受講】or【Live配信】のみ半導体表面に付着す…
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