「電気・電子・半導体・通信」一覧
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2/28 ポスト5G/6G対応材料設計のための 材料誘電率の測定&評価技術
イベント名 ポスト5G/6G対応材料設計のための 材料誘電率の測定&評価技術 開催期間 2025年02月28日(金)
13:00~16:30
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 Live配信セミナー(リアルタイム配信) 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年02月28日(金)13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ポスト5G/6G対応材料設計のための材料誘電率の測定&評価技術~高周波対応材料設計に向けた測定法と測定精度の評価方法~ 受講可能な形式:【ライブ配信】のみ周波数や材料特性や目的に合わせた測定法の選び方から測… -
2/28 <全体像、理論的基礎、原理と研究動向、応用まで解説> ■最新AI時代のライトフィールド技術と応用展望■ ライトフィールドカメラ/ ライトフィールドディスプレイの基礎と最新技術動向
イベント名 <全体像、理論的基礎、原理と研究動向、応用まで解説> ■最新AI時代のライトフィールド技術と応用展望■ ライトフィールドカメラ/ ライトフィールドディスプレイの基礎と最新技術動向 開催期間 2025年02月28日(金)
10:30~16:30
【アーカイブの視聴期間】
2025年3月1日(土)~3月7日(金)まで
このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年02月28日(金)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
<全体像、理論的基礎、原理と研究動向、応用まで解説>■最新AI時代のライトフィールド技術と応用展望■ライトフィールドカメラ/ライトフィールドディスプレイの基礎と最新技術動向■NeRFからXRまで、先端の撮影・… -
2/27 <なぜ今、めっきが半導体・電子デバイスに重要なのか?> よくわかる!めっき技術/新めっき技術と 半導体・エレクトロニクスデバイスへの応用・最新動向
イベント名 <なぜ今、めっきが半導体・電子デバイスに重要なのか?> よくわかる!めっき技術/新めっき技術と 半導体・エレクトロニクスデバイスへの応用・最新動向 開催期間 2025年02月27日(木)
10:30~16:30
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 Live配信セミナー(リアルタイム配信) 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年02月27日(木)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
<なぜ今、めっきが半導体・電子デバイスに重要なのか?>よくわかる!めっき技術/新めっき技術と半導体・エレクトロニクスデバイスへの応用・最新動向■プリント基板の微細化・積層化■ ■積層チップの貫通電極、… -
2/21 <EV電動化モビリティの高電圧絶縁評価技術の基礎と実例> 電動化モビリティのモータと 関連電装品の高電圧化・高周波化・熱対策に向けた 絶縁品質評価技術と樹脂材料開発
イベント名 <EV電動化モビリティの高電圧絶縁評価技術の基礎と実例> 電動化モビリティのモータと 関連電装品の高電圧化・高周波化・熱対策に向けた 絶縁品質評価技術と樹脂材料開発 開催期間 2025年02月21日(金)
10:00~17:00
【アーカイブの視聴期間】
2025年2月22日(土)~2月28日(金)まで
このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年02月21日(金)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
<EV電動化モビリティの高電圧絶縁評価技術の基礎と実例>電動化モビリティのモータと関連電装品の高電圧化・高周波化・熱対策に向けた絶縁品質評価技術と樹脂材料開発■電動化モビリティの高電圧絶縁技術■ ■電… -
2/26 熱伝導性フィラーの充填・表面処理技術と ポリマー系コンポジットの開発、 微視構造設計・特性評価技術
イベント名 熱伝導性フィラーの充填・表面処理技術と ポリマー系コンポジットの開発、 微視構造設計・特性評価技術 開催期間 2025年02月26日(水) ~ 2025年03月13日(木)
【ライブ配信】 2025年2月26日(水) 13:00~16:30
【アーカイブ配信】 2025年3月13日(木)まで受付
(視聴期間:3/13~2/27)
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年03月13日(木)16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
熱伝導性フィラーの充填・表面処理技術とポリマー系コンポジットの開発、微視構造設計・特性評価技術~フィラーの最密充填、ハイブリッド化による伝熱ネットワーク構造形成技術~ 受講可能な形式:【ライブ配信】or… -
2/20 AI時代のデータセンターが抱える 熱問題の現状・課題と 冷却技術による対策動向および今後の展望
イベント名 AI時代のデータセンターが抱える 熱問題の現状・課題と 冷却技術による対策動向および今後の展望 開催期間 2025年02月20日(木)
13:00~16:30
【アーカイブの視聴期間】
視聴期間:2/21~2/28の8日間
※アーカイブは原則として編集は行いません
※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。
(開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます)
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年02月20日(木)13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
AI時代のデータセンターが抱える熱問題の現状・課題と冷却技術による対策動向および今後の展望熱処理入門、放熱材料・システム、液浸冷却の特徴、空冷と水冷のハイブリッド、空調、省エネ技術 etc. 受講可能な形式:… -
2/27 チップレット集積の要素技術と実用化に向けた開発動向
イベント名 チップレット集積の要素技術と実用化に向けた開発動向 開催期間 2025年02月27日(木) ~ 2025年03月11日(火)
【Live配信】2025年2月27日(木) 13:30~15:00
【アーカイブ配信】 2025年3月11日(火)まで受付
(視聴期間:3/11~3/25)
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年03月11日(火)16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
チップレット集積の要素技術と実用化に向けた開発動向3D集積・光集積技術を含むチップレット集積の最新トレンドと産業化動向 受講可能な形式:【Live配信】or 【アーカイブ配信】のみ90分で学ぶ!チップレット集積の… -
3/24 <半導体洗浄・乾燥技術> 半導体製造におけるシリコンウェーハの洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで
イベント名 <半導体洗浄・乾燥技術> 半導体製造におけるシリコンウェーハの洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2025年03月24日(月)
【会場受講】 2025年3月24日(月) 10:00~17:00
【Live配信】 2025年3月24日(月) 10:00~17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場受講】もしくは【Live配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5F 第4講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2025年03月24日(月)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
<半導体洗浄・乾燥技術>半導体製造におけるシリコンウェーハの洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式:【会場受講】or【Live配信】のみシリコンウェーハ上の汚染物質をいかに除去す… -
2/27 <半導体クリーン化・歩留向上技術> 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のための シリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで
イベント名 <半導体クリーン化・歩留向上技術> 半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のための シリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2025年02月27日(木)
【会場受講】 2025年2月27日(木) 10:00~17:00
【Live配信】 2025年2月27日(木) 10:00~17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場受講】もしくは【Live配信受講】 会場の住所 東京都千代田区神田駿河台3-2-11 連合会館 4F 401会議室 地図 https://www.science-t.com/hall/16432.html お申し込み期限日 2025年02月27日(木)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
<半導体クリーン化・歩留向上技術>半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式:【会場受講】or【Live配信】のみ半導体表面に付着す… -
2/27,3/24 半導体製造における シリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術 および洗浄・乾燥技術:基礎から最新動向まで 2か月連続セミナー
イベント名 半導体製造における シリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術 および洗浄・乾燥技術:基礎から最新動向まで 2か月連続セミナー 開催期間 2025年02月27日(木) ~ 2025年03月24日(月)
【クリーン化・歩留向上技術:会場受講】
会場:東京・千代田区駿河台 連合会館 4F 401会議室
2025年2月27日(木) 10:00~17:00
【クリーン化・歩留向上技術:Live配信】
2025年2月27日(木) 10:00~17:00
【洗浄・乾燥技術:会場受講】
会場:東京・品川区大井町 きゅりあん 5F 第4講習室
2025年3月24日(月) 10:00~17:00
【洗浄・乾燥技術:Live配信】
2025年3月24日(月) 10:00~17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場受講】もしくは【Live配信受講】 会場の住所 東京都【クリーン化・歩留向上技術】千代田区神田駿河台3-2-11連合会館 4F 401会議室 / 【洗浄・乾燥技術:会場受講】品川区東大井5-18-1きゅりあん 5F 第4講習室 お申し込み期限日 2025年02月27日(木)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術:基礎から最新動向まで 2か月連続セミナー2月27日(木)クリーン化・歩留向上技術編 / 3月24日(月)洗浄・乾燥技術編 受講可…
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