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「表面科学:接着・コーティング」一覧

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  • 3/17 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化 およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向

    電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2025年12月16日 /  化学・樹脂 電子・半導体
    イベント名 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化 およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向
    開催期間 2026年03月17日(火) ~ 2026年04月03日(金)
    【ライブ配信】2026年3月17日(火)10:30~16:30
    【アーカイブ配信】2026年4月3日(金)まで受付
    (視聴期間:4/3~4/16)
    ※会社・自宅にいながら受講可能です。
    【配布資料】
    会場名 【ライブ配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2026年04月03日(金)16時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向■フォトレジストの基本原理(光化学反応・溶解性)■ ■ポジ型/ネガ型レジスト■■レジストとSi基板の密着性向上■■レジスト…
  • 3/9 ALD(原子層堆積法)の基礎と プロセス最適化および最新技術動向

    電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2025年12月16日 /  電子・半導体 先端技術
    イベント名 ALD(原子層堆積法)の基礎と プロセス最適化および最新技術動向
    開催期間 2026年03月09日(月)
    10:30~16:30

    【配布資料】
    製本テキスト(当日会場でお渡しします。)

    ※昼食付
    ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
    ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
    会場名 受講可能な形式:【会場受講】のみ
    会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5F 第3講習室
    地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html
    お申し込み期限日 2026年03月08日(日)16時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    ALD(原子層堆積法)の基礎とプロセス最適化および最新技術動向■今、ホットで注目のALDを基礎から学びます。高品質化・最適化へ■■ALD/ALE2025国際学会(2025年6月開催)など、国際的な最新動向も解説■ 受…
  • 1/29 粘着剤・粘着テープの剥離メカニズム・動的挙動と 応力・変形・レオロジーコントロール ~どうすればくっつくか?きれいに剥がれるか?~

    樹脂・ゴム・高分子系複合材料 表面科学:接着・コーティング  / 2025年12月15日 /  化学・樹脂 試験・分析・測定
    イベント名 粘着剤・粘着テープの剥離メカニズム・動的挙動と 応力・変形・レオロジーコントロール ~どうすればくっつくか?きれいに剥がれるか?~
    開催期間 2026年01月29日(木) ~ 2026年02月16日(月)
    【ライブ配信】2026年1月29日(木)10:30~16:30
    【アーカイブ配信】2026年2月16日(月)から配信開始
    【視聴期間:2/16(月)~3/2(月)】

    ※会社・自宅にいながら受講可能です。
    ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
    ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

    【配布資料】
    PDFテキスト(印刷可・編集不可)
    ※ライブ配信受講は、開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
    ※アーカイブ配信受講は、視聴配信開始日からダウンロード可となります。
    会場名 【ライブ配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2026年02月16日(月)16時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    粘着剤・粘着テープの剥離メカニズム・動的挙動と応力・変形・レオロジーコントロール~どうすればくっつくか?きれいに剥がれるか?~■粘着・剥離とレオロジー、変形メカニズムと非線形動力学■ 受講可能な形式:…
  • 1/28 グラフェン系材料の基礎、高機能化技術および応用への展開

    電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2025年12月15日 /  化学・樹脂 電子・半導体
    イベント名 グラフェン系材料の基礎、高機能化技術および応用への展開
    開催期間 2026年01月28日(水)
    13:00~16:30
    【見逃し配信の視聴期間】
    2026年1月29日(木)~2月4日(水)まで
    ※このセミナーは見逃し配信付です。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。また録画データは原則として編集は行いません。
    ※マイページからZoomの録画視聴用リンクにてご視聴いただきます。

    ※会社・自宅にいながら受講可能です。
    ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
    ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

    【配布資料】
    製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)
    ※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が開催日に間に合わないことがございます。
    ※Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2026年01月28日(水)13時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    グラフェン系材料の基礎、高機能化技術および応用への展開■グラフェンの特徴、グラフェン形成・合成技術■■CVDグラフェンの転写技術■ ■グラフェンの評価技術■■グラフェンの応用(透明導電膜、バリア膜・保…
  • 1/23 原子間力顕微鏡(AFM)の基礎理論と高精度測定技術

    表面科学:接着・コーティング 分析・評価・品質管理  / 2025年12月12日 /  試験・分析・測定
    イベント名 原子間力顕微鏡(AFM)の基礎理論と高精度測定技術
    開催期間 2026年01月23日(金) ~ 2026年02月12日(木)
    【ライブ配信】2026年1月23日(金)10:30~16:30
    【アーカイブ配信】2026年2月12日(木)まで受付
    (視聴期間:2/12~2/26)

    ※会社・自宅にいながら受講可能です。
    ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
    ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

    【配布資料】
    PDFデータ(印刷可・編集不可)
    ※開催2日前を目安に、S&T会員のマイページよりダウンロード可となります。
    ※アーカイブ配信受講の場合は配信開始日からダウンロード可となります。
    会場名 【ライブ配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2026年02月12日(木)16時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    原子間力顕微鏡(AFM)の基礎理論と高精度測定技術~入門から応用までの体系的アプローチ~ 受講可能な形式:【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ 【オンライン配信】ライブ配信(Zoom) ►受講方法・接続確認(…
  • 1/15 シリカナノ粒子の合成と化学修飾による高機能化

    粉体・微粒子・分散技術 表面科学:接着・コーティング  / 2025年12月11日 /  環境 化学・樹脂
    イベント名 シリカナノ粒子の合成と化学修飾による高機能化
    開催期間 2026年01月15日(木)
    10:30~16:30

    【見逃し配信の視聴期間】
    2026年1月16日(金)~1月22日(木)まで
    ライブ配信受講に加えて、見逃し配信(アーカイブ)でも1週間視聴できます。
    ライブ配信受講を欠席し、見逃し配信視聴のみの受講も可能です。
    ※録画データは原則として編集は行いません。
    ※マイページからZoomの録画視聴用リンクにてご視聴いただきます。

    ※会社・自宅にいながら受講可能です。
    ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
    ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

    【配布資料】
    PDFテキスト(印刷可・編集不可)
    ※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
    会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2026年01月15日(木)10時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    シリカナノ粒子の合成と化学修飾による高機能化■二酸化ケイ素から成る数十~数百 nm のシリカナノ粒子(コロイダルシリカ)■■シリカナノ粒子合成(修飾)の勘所について可能な限り解説します。■ 受講可能な形式…
  • 2/26まで申込み受付中 【オンデマンド配信】 防汚コーティング技術の総合知識

    イベント名 【オンデマンド配信】 防汚コーティング技術の総合知識
    開催期間 2026年02月26日(木)
    23:59まで申込受付中 
    /映像時間:3時間26分 
    /収録日:2025年10月8日
    (期間中は何度でも視聴可)

    ※会社・自宅にいながら受講可能です。
    ※セミナーの録音・撮影、複製は固くお断りいたします。
    ※講師の所属などは、収録当時のものをご案内しております。

    【配布資料】
    PDFテキスト(印刷可・編集不可):マイページよりダウンロード
    講師メールアドレスの掲載:有
    会場名 【オンデマンド配信】※期間中は、何度でも・繰り返し視聴可能です。
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2026年02月26日(木)23時
    お申し込み

    【オンデマンド配信】防汚コーティング技術の総合知識防汚コーティングの種類・防汚メカニズム、各種コーティング剤、防汚性の評価などの一通りを、汚れの付着のしくみからやさしく解説。 視聴期間:申込日から10営…
  • 1/29まで申込み受付中【オンデマンド配信】 UV硬化樹脂の硬化度・物性の測定評価と 硬化不良・密着不良などのトラブル対策

    イベント名 【オンデマンド配信】 UV硬化樹脂の硬化度・物性の測定評価と 硬化不良・密着不良などのトラブル対策
    開催期間 2026年01月29日(木)
    23:59まで申込受付中 
    /映像時間:4時間31分 
    /収録日:2025年5月30日
    (期間中は何度でも視聴可)

    ※会社・自宅にいながら受講可能です。
    ※録音・撮影、複製は固くお断りいたします。
    ※講師の所属などは、収録当時のものをご案内しております

    【配布資料】
    ・PDFデータ(印刷可):マイページよりダウンロード ※資料のあらゆる二次的な利用は固く禁じます。
    講師メールアドレスの掲載:有(セミナーに関する質問に限りメールで質問が可能です)
    ※ご質問の内容や時期によっては、ご回答できない場合がございますのでご了承下さい。
    会場名 【オンデマンド配信】※期間中は、何度でも・繰り返し視聴可能です。
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2026年01月29日(木)23時
    お申し込み

    【オンデマンド配信】UV硬化樹脂の硬化度・物性の測定評価と硬化不良・密着不良などのトラブル対策~UV硬化の過程及び硬化後の表面・内部、基材との間では何が起こっているのか~ 視聴期間:申込日含め10営業日(期…
  • 3/2 ドライエッチング技術の基礎と 原子層エッチング(ALE)の最新技術動向

    電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2025年11月24日 /  電子・半導体 先端技術
    イベント名 ドライエッチング技術の基礎と 原子層エッチング(ALE)の最新技術動向
    開催期間 2026年03月02日(月)
    10:30~16:30
    【アーカイブの視聴期間】
    2026年3月3日(火)~3月9日(月)まで
    ※このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。

    ※会社・自宅にいながら受講可能です。
    ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
    ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

    【配布資料】
    PDFテキスト(印刷可・編集不可)
    ※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
    会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2026年03月02日(月)10時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング(ALE)の最新技術動向■最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術■■半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション(DX)■ 受講可能な形式…
  • 2/6 半導体・電子デバイス製造における 真空および薄膜形成・加工技術

    電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2025年11月21日 /  化学・樹脂 電子・半導体
    イベント名 半導体・電子デバイス製造における 真空および薄膜形成・加工技術
    開催期間 2026年02月06日(金)
    10:00~17:00
    ※会社・自宅にいながら受講可能です。
    ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
    ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。

    【配布資料】
    製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)
    ※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、
    セミナー資料の到着が開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
    会場名 Live配信セミナー(リアルタイム配信)
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2026年02月06日(金)10時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    半導体・電子デバイス製造における真空および薄膜形成・加工技術超高真空・真空装置設計・測定技術から蒸着・スパッタ・CVD・ALDによる成膜、ドライエッチングまで、基礎から応用、今後の展望までを徹底解説 受講可…
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