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「表面科学:接着・コーティング」一覧

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  • 2/27まで申込み受付中 【オンデマンド配信】 コーティングプロセスにおける界面化学とレオロジー解析

    粉体・微粒子・分散技術 表面科学:接着・コーティング  / 2025年01月21日 /  鉄/非鉄金属 化学・樹脂 試験・分析・測定
    イベント名 【オンデマンド配信】 コーティングプロセスにおける界面化学とレオロジー解析
    開催期間 2025年02月27日(木)
    まで申込受付中 
    /映像時間:約3時間 
    /収録日:2024年9月26日
    (期間中は何度でも視聴可)
    ※会社・自宅にいながら受講可能です※
    会場名 【オンデマンド配信】  ※何度でも・繰り返し視聴可能です。
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2025年02月27日(木)23時
    お申し込み

    【オンデマンド配信】コーティングプロセスにおける界面化学とレオロジー解析〜濡れ性と粘弾性からコーティングを正しく把握する〜 視聴期間:申込日から10営業日後まで(期間中は何度でも視聴可) 本セミナーでは、…
  • 2/20 半導体用レジストの基礎と材料設計 および環境配慮型の新規レジスト除去技術

    電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2025年01月15日 /  化学・樹脂 電子・半導体
    イベント名 半導体用レジストの基礎と材料設計 および環境配慮型の新規レジスト除去技術
    開催期間 2025年02月20日(木) ~ 2025年03月05日(水)
    【Live配信】2025年2月20日(木)10:30~16:30
    【アーカイブ配信】2025年3月5日(水)まで受付
    (視聴期間:3/5~3/18)
    ※会社・自宅にいながら受講可能です※
    会場名 【Live配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2025年03月05日(水)16時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    半導体用レジストの基礎と材料設計および環境配慮型の新規レジスト除去技術~レジストの特性や光化学反応、評価手法、EUVレジストや化学増幅型レジストなどを丁寧に解説~ 受講可能な形式:【Live配信】or【アーカイ…
  • 2/12 気体の吸着・脱着 基礎と応用

    エネルギー・環境・機械 表面科学:接着・コーティング  / 2025年01月15日 /  環境 鉄/非鉄金属
    イベント名 気体の吸着・脱着 基礎と応用
    開催期間 2025年02月12日(水)
    10:30~16:00
    ※会社・自宅にいながら受講可能です※
    会場名 Live配信セミナー(リアルタイム配信)
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2025年02月12日(水)10時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    気体の吸着・脱着 基礎と応用物理吸着、化学吸着、吸収および吸蔵の基礎知識と応用技術への展開 受講可能な形式:【Live配信】のみ 本セミナーでは、ガス吸着の基礎理論、ナノ細孔体の分類と基礎特性、細孔体の特性…
  • 1/31 ゾル-ゲル法の基礎と 材料合成、(新規)材料開発で活用するための 実用的な総合知識

    イベント名 ゾル-ゲル法の基礎と 材料合成、(新規)材料開発で活用するための 実用的な総合知識
    開催期間 2025年01月31日(金) ~ 2025年02月17日(月)
    【ライブ配信】 2025年1月31日(金) 10:30~16:30
    【アーカイブ配信】 2025年2月17日(月)まで受付
    (視聴期間:2/17~3/3)
    ※会社・自宅にいながら受講可能です※
    会場名 【Live配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2025年02月17日(月)16時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    ゾル-ゲル法の基礎と材料合成、(新規)材料開発で活用するための実用的な総合知識~原料・材料選択、合成プロセス、条件の最適化、反応メカニズム、解析、応用~ 受講可能な形式:【ライブ配信】or【アーカイブ配信】…
  • 1/30 【オンデマンド配信】 ヒートシールの基礎、接合のメカニズムと 品質管理・不具合対策

    樹脂・ゴム・高分子系複合材料 表面科学:接着・コーティング  / 2025年01月10日 /  食品・機械 化学・樹脂
    イベント名 【オンデマンド配信】 ヒートシールの基礎、接合のメカニズムと 品質管理・不具合対策
    開催期間 2025年01月30日(木)
    23:59まで申込受付中 
    /映像時間:約4時間9分 
    /収録日時:2024年10月22日
    (期間中は何度でも視聴可)
    ※会社・自宅にいながら受講可能です※
    会場名 【オンデマンド配信】  ※何度でも・繰り返し視聴可能です。
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2025年01月30日(木)23時
    お申し込み

    【オンデマンド配信】ヒートシールの基礎、接合のメカニズムと品質管理・不具合対策~よりよいヒートシールを実現するための高分子加工学からのアプローチ~ 視聴期間:申込日含め10営業日(期間中は何度でも視聴可…
  • 1/31 リソグラフィ技術の基礎および EUVリソグラフィ・レジスト周辺技術と展望

    環境材料 電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2025年01月06日 /  電子・半導体 先端技術
    イベント名 リソグラフィ技術の基礎および EUVリソグラフィ・レジスト周辺技術と展望
    開催期間 2025年01月31日(金)
    13:00~16:30
    【アーカイブの視聴期間】
    2025年2月1日(土)~2月7日(金)まで
    ※このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
    ※会社・自宅にいながら受講可能です※
    会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2025年01月31日(金)13時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    リソグラフィ技術の基礎およびEUVリソグラフィ・レジスト周辺技術と展望 ~半導体プロセス技術、半導体デバイス技術、リソグラフィ技術~ 受講可能な形式:【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ【半導体産業応援キャ…
  • 1/20 ドライエッチング技術の基礎と 原子層エッチング(ALE)の最新技術動向

    電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2024年12月24日 /  電子・半導体 先端技術
    イベント名 ドライエッチング技術の基礎と 原子層エッチング(ALE)の最新技術動向
    開催期間 2025年01月20日(月)
    10:30~16:30
    【アーカイブの視聴期間】
    2025年1月21日(火)~1月27日(月)まで
    ※このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
    ※会社・自宅にいながら受講可能です※
    会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2025年01月20日(月)10時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    ドライエッチング技術の基礎と原子層エッチング(ALE)の最新技術動向■最先端半導体プロセスに用いられるドライエッチング技術■■半導体プロセス分野のデジタル・トランスフォーメーション(DX)■ 受講可能な形式…
  • 3/28 フィルムの延伸・分子配向の基礎、 過程現象の解明と構造形成、物性発現、評価方法

    イベント名 フィルムの延伸・分子配向の基礎、 過程現象の解明と構造形成、物性発現、評価方法
    開催期間 2025年03月28日(金)
    13:00~16:30
    ※会社・自宅にいながら受講可能です※
    会場名 Live配信セミナー(リアルタイム配信)
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2025年03月28日(金)13時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    フィルムの延伸・分子配向の基礎、過程現象の解明と構造形成、物性発現、評価方法~プラスチックの延伸、高分分子フィルム延伸、延伸ポリマー~ 受講可能な形式:【ライブ配信】のみ プラスチックの延伸技術、延伸ポ…
  • 1/20 大気圧プラズマの基礎と最新応用技術

    表面科学:接着・コーティング  / 2024年12月23日 /  環境 産業機械機器 化学・樹脂
    イベント名 大気圧プラズマの基礎と最新応用技術
    開催期間 2025年01月20日(月)
    10:30~17:00
    ※会社・自宅にいながら受講可能です※
    会場名 Live配信セミナー(リアルタイム配信)
    会場の住所 オンライン
    お申し込み期限日 2025年01月20日(月)10時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    大気圧プラズマの基礎と最新応用技術高速半導体プロセシング、高速親水化処理・クリーニング、コーティング、金属酸化膜の超高速還元、殺菌・ウイルス不活化、医療機器、排ガス処理、廃水処理、VOC(揮発性有機化合…
  • 2/28 ALD(原子層堆積法)の基礎と プロセス最適化および最新技術動向

    電気・電子・半導体・通信 表面科学:接着・コーティング  / 2024年11月29日 /  電子・半導体 先端技術
    イベント名 ALD(原子層堆積法)の基礎と プロセス最適化および最新技術動向
    開催期間 2025年02月28日(金)
    10:30~16:30
    ※昼食付
    ※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
    ※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
    会場名 受講可能な形式:【会場受講】のみ
    会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5F 第4講習室
    地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html
    お申し込み期限日 2025年02月28日(金)10時
    お申し込み受付人数 30  名様
    お申し込み

    ALD(原子層堆積法)の基礎とプロセス最適化および最新技術動向■今、ホットで注目のALDを基礎から学びます。高品質化・最適化へ■ 受講可能な形式:【会場受講】のみ※オンラインセミナーはありません。 ★ …
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