7/24 XPS（ESCA）の基礎と応用

 　本セミナーは、XPSの原理、試料作製と測定条件の設定方法、データ解析を適切におこなうためのノウハウを紹介し、応用例を用いてわかりやすく解説する。

1．表面分析とは
　1.1 材料表面・界面の重要性
　1.2 各種表面分析手法
　1.3 他の表面分析手法との比較
    AES（オージェ電子分光法）
　    TOF-SIMS（飛行時間型二次イオン質量分析法）

2．XPSの原理と特徴
　2.1 XPS装置の構成
　2.2 XPS分析の原理
　2.3 XPSスペクトルと化学シフト
　2.4 XPS分析が表面分析となる理由
　2.5 深さ方向分析
　2.6 イメージング分析

3．XPSの試料作成と測定条件
　3.1 測定できる試料とその形状
　3.2 サンプリングの注意点　
　3.3 粉末試料
　3.4 絶縁試料と中和
　3.5 電池材料、導電物と絶縁物の混在試料

4．測定 
　4.1 ワイドスペクトル（サーベイスペクトル）
　4.2 ナロースペクトル
　4.3 プロファイル分析

5．データ処理 
　5.1 XPSの強度計算
　5.2 標準試料を用いない表面半定量
　5.3 定量範囲の決定
　5.4 化学状態の推定（カーブフィッティング）

6．最新の測定技術 
　6.1 マイクロXPS分析
　6.2 ガスクラスターイオン銃による有機試料の深さ方向分析
　6.3 高エネルギーXPS（HAXPES）
　6.4 UPS（紫外光電子分光法）とLEIPS（逆光電子分光法）
　6.5 AESと組み合わせた分析
　6.6 TOF-SIMSと組み合わせた分析

7．よくある質問
　定量に含めるピークと含めないサテライトピーク
　中和がうまくいっていない時の考え方と対処
　カーブフィッティング（ピークフィッティング）をおこなってよい場合
　分析結果をきれいに見せる

8．まとめ、質疑