5/20 半導体露光技術の発展、 およびEUV露光装置の現状と将来展望

国立大学法人東京科学大学　総合研究院　ゼロカーボンエネルギー研究所　研究員　博士（工学）　鈴木 一明　氏
[ご専門] 精密工学、半導体微細加工技術、X線非破壊検査技術
講師情報

　半導体製造プロセス全体におけるリソグラフィの位置づけ、パターン微細化に伴う半導体露光方式の進化の流れを、専門外の方々にもわかりやすく説明する。 次に、投影露光装置の構成、主要性能と要素性能の関係について述べ、露光装置についての定性的理解を深めてもらう。更に、解像度に対する投影光学系、照明光学系のパラメータと露光波長の寄与について数式を用いて詳しく説明し、専門の方には計算の仕方を、専門外の方には計算結果の意味するところを理解してもらう。そして、多層膜反射光学系を含むEUV露光装置とその関連技術の特徴、最新状況、今後の展望について説明する。最後に、露光装置によって形成される光学像強度分布からレジスト像への転写原理、レジスト材料の原理について述べる。

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