「生産：製造プロセス・化学工学」一覧
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4/23 結晶化・晶析操作の基礎と結晶粒子群の特性を 精密制御するための作り込みノウハウ
イベント名 結晶化・晶析操作の基礎と結晶粒子群の特性を 精密制御するための作り込みノウハウ 開催期間 2024年04月23日（火） ～ 2024年05月13日（月）
【Live配信】2024年4月23日（火）10:30～16:30
【アーカイブ配信】2024年5月13日（月）まで受付
（視聴期間：5/13～5/24）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年05月13日（月）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
結晶化・晶析操作の基礎と結晶粒子群の特性を精密制御するための作り込みノウハウ～結晶純度・不純物、多形、分布、形態の改善から連続フロー製造まで～～晶析に関係するパラメーターや、トレンド・トラブルシューテ… -
4/16 ライフサイクルアセスメント (LCA) の考え方と実践方法 ～製品や組織の環境パフォーマンスと資源循環の評価手法～
イベント名 ライフサイクルアセスメント (LCA) の考え方と実践方法 ～製品や組織の環境パフォーマンスと資源循環の評価手法～ 開催期間 2024年04月16日（火）
13:00～16:30
【アーカイブの視聴期間】
2024年4月17日(水)～4月23日(火)まで
このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年04月16日（火）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ライフサイクルアセスメント (LCA) の考え方と実践方法～製品や組織の環境パフォーマンスと資源循環の評価手法～■組織（企業）の温室効果ガス排出量を算定するスコープ3■■環境負荷の削減効果をLCAによって評価す… -
4/5 半導体の洗浄技術の基礎、 付着物の有効な除去とクリーン化技術
イベント名 半導体の洗浄技術の基礎、 付着物の有効な除去とクリーン化技術 開催期間 2024年04月05日（金） ～ 2024年04月18日（木）
【Live配信】 2024年4月5日（金） 13:00～16:30
【アーカイブ配信】 2024年4月18日（木）まで受付
（視聴期間：4/18～5/2）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年04月18日（木）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
半導体の洗浄技術の基礎、付着物の有効な除去とクリーン化技術～半導体基板・デバイスにおける固体表面と固液界面の性質を把握した洗浄技術～■洗浄の基本メカニズムと半導体デバイス■■半導体基板で有効な付着物の… -
4/16開講 【通信講座】化学プロセスにおける コスト・設備投資試算／事業採算性検討入門
【通信講座】化学プロセスにおけるコスト・設備投資試算／事業採算性検討入門～具体的仮想プロセスを例にして～ 第１講『プロセスの収支計算とプロセスフロー』 第1講では、プロセス設計を行うための仮想プロセスを… -
イベント名 半導体デバイス製造工程の基礎 開催期間 2024年03月27日（水） ～ 2024年04月09日（火）
【Live配信】2024年3月27日（水） 10:30～16:30
【アーカイブ配信】2024年4月9日（火）まで受付
(視聴期間：4/9～4/22）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年04月09日（火）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
半導体デバイス製造工程の基礎～全体俯瞰と個々のプロセス技術の理解および最近の動向の把握～■前工程から後工程、デバイス・材料技術、信頼性への影響■■何が変わってきたのか、何が求められているのか■■今求め… -
3/21 ＜ダイを用いた塗布・塗工のトラブル対策へ＞ ダイ塗布プロセスの欠陥メカニズム・課題と対策
イベント名 ＜ダイを用いた塗布・塗工のトラブル対策へ＞ ダイ塗布プロセスの欠陥メカニズム・課題と対策 開催期間 2024年03月21日（木）
13:00～16:30
【アーカイブの視聴期間】
2024年3月22日(金)～3月28日(木)まで
このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年03月21日（木）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜ダイを用いた塗布・塗工のトラブル対策へ＞ダイ塗布プロセスの欠陥メカニズム・課題と対策～代表的な８種の塗布欠陥の発生メカニズムと対策・対応力を養う～リビング・空気同伴・レベリング・段ムラ・風ムラ・ウィ… -
3/15 超臨界/亜臨界流体の基礎・溶媒特性と プラスチックのリサイクルおよび合成への応用
イベント名 超臨界/亜臨界流体の基礎・溶媒特性と プラスチックのリサイクルおよび合成への応用 開催期間 2024年03月15日（金） ～ 2024年04月03日（水）
【Live配信】2024年3月15日（金）13:00～16:30
【アーカイブ配信】2024年4月3日（水）まで受付
（視聴期間：4/3～4/17）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年04月03日（水）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
超臨界/亜臨界流体の基礎・溶媒特性とプラスチックのリサイクルおよび合成への応用～ グリーンサステイナブルケミストリー実現に向けた利用技術 ～ 受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ令和５年度… -
4/15 ＜先端半導体洗浄・乾燥技術＞ 半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで
イベント名 ＜先端半導体洗浄・乾燥技術＞ 半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2024年04月15日（月）
【会場受講】 2024年4月15日（月） 10:00～17:00
【Live配信】 2024年4月15日（月） 10:00～17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場受講】もしくは【Live配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 4F 第1特別講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2024年04月15日（月）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜先端半導体洗浄・乾燥技術＞半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式：【会場受講】or【Live配信】のみシリコンウェーハ上の汚染物質をいかに除去する… -
3/18 ＜先端半導体クリーン化・歩留向上技術＞ 先端半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のための ウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで
イベント名 ＜先端半導体クリーン化・歩留向上技術＞ 先端半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のための ウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2024年03月18日（月）
【会場受講】 2024年3月18日（月） 10:00～17:00
【Live配信】 2024年3月18日（月） 10:00～17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場受講】もしくは【Live配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 4F 第1特別講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2024年03月18日（月）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜先端半導体クリーン化・歩留向上技術＞先端半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式：【会場受講】or【Live配信】のみ半導体表面に付着す… -
3/18,4/15 先端半導体製造における シリコンウェーハ表面のクリーン化技術 および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー
イベント名 先端半導体製造における シリコンウェーハ表面のクリーン化技術 および洗浄・乾燥技術 2か月連続セミナー 開催期間 2024年03月18日（月） ～ 2024年04月15日（月）
【クリーン化・歩留向上技術：会場受講】
2024年3月18日（月） 10:00～17:00
【クリーン化・歩留向上技術：Live配信】
2024年3月18日（月） 10:00～17:00
【洗浄・乾燥技術：会場受講】
2024年4月15日（月） 10:00～17:00
【洗浄・乾燥技術：Live配信】
2024年4月15日（月） 10:00～17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場受講】もしくは【Live配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 4F 第1特別講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2024年03月18日（月）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
先端半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化技術および洗浄・乾燥技術2か月連続セミナー3月18日(月) 先端半導体クリーン化・歩留向上技術編／4月15日(月) 先端半導体洗浄・乾燥技術編 受講可能な形式：…
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