「電気・電子・半導体・通信」一覧
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イベント名 二次元物質の基礎と 半導体デバイスへの応用と展開 開催期間 2026年03月26日（木）
13:00～16:30
【見逃し配信の視聴期間】
2026年3月27日(金)～4月2日(木)まで
※このセミナーは見逃し配信付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※ライブ配信を欠席し見逃し視聴のみの受講も可能です。
※動画は未編集のものになります。
※視聴ページは、開催翌営業日の午前中には、マイページにリンクを設定する予定です。
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承ください。Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年03月26日（木）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
二次元物質の基礎と半導体デバイスへの応用と展開微細化・高集積化の限界突破に向けた、次世代半導体材料技術としての二次元物質の可能性 受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ 【オンライン配信】Zoom… -
2/19 ペロブスカイト太陽電池の 高効率化・高耐久性化技術と今後の展望
イベント名 ペロブスカイト太陽電池の 高効率化・高耐久性化技術と今後の展望 開催期間 2026年02月19日（木）
13:00～16:30
【見逃し配信の視聴期間】
2026年2月20日(金)～2月26日(木)まで
※このセミナーは見逃し配信付です。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※視聴期間は終了翌日から7日間を予定しています。また録画データは原則として編集は行いません。
※マイページからZoomの録画視聴用リンクにてご視聴いただきます。
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
PDFデータ(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、S＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年02月19日（木）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ペロブスカイト太陽電池の高効率化・高耐久性化技術と今後の展望 受講可能な形式：【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ【カーボンニュートラル応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク 【オン… -
3/18 透明導電材料/膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向
イベント名 透明導電材料/膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向 開催期間 2026年03月18日（水） ～ 2026年04月03日（金）
【ライブ配信】
2026年3月18日（水）13:00～16:30
【アーカイブ配信】
2026年4月3日（金） まで申込み受付
（視聴期間：4/3～4/16）
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。
※アーカイブ配信受講の場合は配信開始日(4/25)からダウンロード可となります。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年04月03日（金）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
透明導電材料/膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向ITO系・PEDOT/PSS系塗布型透明導電膜の材料設計と応用事例タッチパネル・EMC対策・太陽電池への応用展開などについて解説 受講可能な形式：【ライブ配信(アーカイ… -
3/13まで申込み受付中 【オンデマンド配信】 特許情報からみた メタマテリアル／メタサーフェスが促す 光／電子デバイス材料設計の新潮流［2024］
イベント名 【オンデマンド配信】 特許情報からみた メタマテリアル／メタサーフェスが促す 光／電子デバイス材料設計の新潮流［2024］ 開催期間 2026年03月13日（金）
23:59まで申込受付中
／映像時間：4時間44分
／収録日：2024年10月30日（水）
（期間中は何度でも視聴可）
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※WEBセミナーの録音・撮影、複製は固くお断りいたします。
※講師の所属などは、収録当時のものをご案内しております。
【配布資料】
製本テキスト
※セミナー資料はお申込み時にご指定の住所へ発送させていただきます。
※申込み日から営業日3日までに発送いたします。
講師メールアドレスの掲載：有会場名 【オンデマンド配信】※期間中は、何度でも・繰り返し視聴可能です。 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年03月13日（金）23時 お申し込み
【オンデマンド配信】特許情報からみたメタマテリアル／メタサーフェスが促す光／電子デバイス材料設計の新潮流［2024］太陽電池 5G／6G 光インターコネクション 電力伝送 LiDAR 遮音／吸音 etc.各種分野で既存材料… -
イベント名 チップレット実装における接合技術動向 開催期間 2026年03月24日（火）
13:00～14:15
※会社・自宅にいながら受講可能です。
【配布資料】
PDFデータ（印刷可）
弊社HPマイページよりダウンロードいただきます（開催2日前を目安にDL可となります）。会場名 ライブ配信セミナー（リアルタイム配信） 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年03月24日（火）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
チップレット実装における接合技術動向 受講可能な形式：【ライブ配信】 【オンライン配信】Zoomによるライブ配信 ►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）・セミナー視聴はマイページから お申し込み… -
3/27,4/17 半導体製造における シリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術 および洗浄・乾燥技術：基礎から最新動向まで 2か月連続セミナー
イベント名 半導体製造における シリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術 および洗浄・乾燥技術：基礎から最新動向まで 2か月連続セミナー 開催期間 2026年03月27日（金） ～ 2026年04月17日（金）
【クリーン化・歩留向上技術：会場受講】
きゅりあん 4F 第1特別講習室
2026年3月27日（金） 10:00～17:00
【クリーン化・歩留向上技術：Live配信】
2026年3月27日（金） 10:00～17:00
【洗浄・乾燥技術：会場受講】
きゅりあん 5F 第3講習室
2026年4月17日（金） 10:00～17:00
【洗浄・乾燥技術：Live配信】
2026年4月17日（金） 10:00～17:00
※会場受講のみ昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中の会場でのパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト
■会場受講：会場にて直接お渡しします。
■Live配信受講：開催日の4、5日前に発送予定
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
視聴画面ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
※なお、セミナー毎の配布になります。会場名 【会場受講】もしくは【ライブ配信受講】 会場の住所 東京都東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2026年03月27日（金）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術：基礎から最新動向まで2か月連続セミナー3月27日(金)クリーン化・歩留向上技術編 ／ 4月17日(金)洗浄・乾燥技術編 受講可能… -
4/17 ＜半導体洗浄・乾燥技術＞ 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで
イベント名 ＜半導体洗浄・乾燥技術＞ 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2026年04月17日（金）
【会場受講】2026年4月17日（金）10:00～17:00
【ライブ配信】2026年4月17日（金）10:00～17:00
※会場受講のみ昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中の会場でのパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト
■会場受講：会場にて直接お渡しします。
■ライブ配信受講：開催日の4、5日前に発送予定
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
視聴画面ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。会場名 【会場受講】もしくは【ライブ配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5F 第3講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2026年04月17日（金）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜半導体洗浄・乾燥技術＞半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式：【会場受講】or【ライブ配信】のみ 【オンライン配信】Zoomによるライブ配… -
3/27 ＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞ 半導体製造ラインの汚染の実態と 歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の 基礎から最新動向まで
イベント名 ＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞ 半導体製造ラインの汚染の実態と 歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の 基礎から最新動向まで 開催期間 2026年03月27日（金）
【会場受講】2026年3月27日（金）10:00～17:00
【ライブ配信】2026年3月27日（金）10:00～17:00
※会場受講のみ昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中の会場でのパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト
■会場受講：会場にて直接お渡しします。
■ライブ配信受講：開催日の4、5日前に発送予定
※開催まで4営業日～前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
視聴画面ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。会場名 【会場受講】もしくは【ライブ配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 4F 第1特別講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2026年03月27日（金）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式：【会場受講】or【ライブ配信】のみ 【オンライン配信… -
2/5 スクリーン印刷の基礎と 実践的な高品質印刷プロセス構築手法
イベント名 スクリーン印刷の基礎と 実践的な高品質印刷プロセス構築手法 開催期間 2026年02月05日（木） ～ 2026年02月24日（火）
【ライブ配信】2026年2月5日（木）10:30～16:30
【アーカイブ配信】2026年2月24日（火）まで受付
（視聴期間：2/24～3/9）
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
PDFデータ（印刷可・編集不可）
※ライブ配信受講は開催2日前を目安にS＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。
※アーカイブ配信受講は配信開始日からダウンロード可となります。会場名 【ライブ配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年02月24日（火）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
スクリーン印刷の基礎と実践的な高品質印刷プロセス構築手法～インキ・ペーストの身になって考える「ペーストプロセス理論」の理解と正しい実践～ 受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ 【オンラ… -
3/17 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化 およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向
イベント名 半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化 およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向 開催期間 2026年03月17日（火） ～ 2026年04月03日（金）
【ライブ配信】2026年3月17日（火）10:30～16:30
【アーカイブ配信】2026年4月3日（金）まで受付
(視聴期間：4/3～4/16）
※会社・自宅にいながら受講可能です。
【配布資料】会場名 【ライブ配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年04月03日（金）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
半導体用レジストの基礎とプロセスの最適化およびEUVリソグラフィ技術・材料の最新動向■フォトレジストの基本原理（光化学反応・溶解性）■ ■ポジ型／ネガ型レジスト■■レジストとSi基板の密着性向上■■レジスト…
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