「電気・電子・半導体・通信」一覧
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「電気・電子・半導体・通信」に関するページ
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3/26 パワー半導体用SiCの 単結晶成長技術および ウェハ加工技術の開発動向
イベント名 パワー半導体用SiCの 単結晶成長技術および ウェハ加工技術の開発動向 開催期間 2024年03月26日(火)
10:30~16:30
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 Live配信セミナー(リアルタイム配信) 会場の住所 東京都 お申し込み期限日 2024年03月26日(火)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
パワー半導体用SiCの単結晶成長技術およびウェハ加工技術の開発動向~高品位質、大口径化、量産化、低コストなウェハを実現するために~■半導体用SiCの基礎知識■■SiCウェハの製造(結晶成長、加工、評価)技術の開… -
3/25 スクリーン印刷の基礎と 実践的な高品質印刷プロセス構築手法および「標準」
イベント名 スクリーン印刷の基礎と 実践的な高品質印刷プロセス構築手法および「標準」 開催期間 2024年03月25日(月) ~ 2024年04月09日(火)
【Live配信】2024年3月25日(月)10:30~16:30
【アーカイブ配信】 2024年4月9日(火)まで受付
(視聴期間:4/9~4/22)
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年04月09日(火)16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
スクリーン印刷の基礎と実践的な高品質印刷プロセス構築手法および「標準」~インキ、ペーストの身になって考える「ペーストプロセス理論」の理解と実践~■スクリーン印刷の原理・メカニズム、有効な「理論」と「標… -
3/21 自動車の電動化に向けた、 シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の 最新状況と今後の動向
イベント名 自動車の電動化に向けた、 シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の 最新状況と今後の動向 開催期間 2024年03月21日(木)
10:30~16:30
【アーカイブの視聴期間】
2024年3月22日(金)~3月28日(木)まで
このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年03月21日(木)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
自動車の電動化に向けた、シリコン、SiC・GaNパワーデバイス開発の最新状況と今後の動向 ■パワー半導体デバイス、パッケージの最新技術動向■■Si-IGBTの強み、SiC/GaNパワーデバイスの特長と課題■■パワー… -
3/28 ポリイミドの基礎と ポリイミド系材料の低誘電率化・低誘電正接化
イベント名 ポリイミドの基礎と ポリイミド系材料の低誘電率化・低誘電正接化 開催期間 2024年03月28日(木) ~ 2024年04月10日(水)
【Live配信】 2024年3月28日(木) 13:00~16:30
【アーカイブ配信】2024年4月10日(水)から配信開始
【視聴期間:4/10(水)~4/23(火)】
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年04月10日(水)16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ポリイミドの基礎とポリイミド系材料の低誘電率化・低誘電正接化 受講可能な形式:【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ★ 求められる低誘電化。ポリイミドの低誘電損失設計へ! <得られる知識、技術など>ポリイ… -
3/13 ダイヤモンド量子センシングの基礎・研究動向 および高感度化・将来展望
イベント名 ダイヤモンド量子センシングの基礎・研究動向 および高感度化・将来展望 開催期間 2024年03月13日(水)
13:00~16:30
【アーカイブの視聴期間】
視聴期間:終了翌営業日から7日間[3/14~3/20中]を予定
※動画は未編集のものになります。
※視聴ページは、マイページにリンクを設定します。
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年03月13日(水)13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ダイヤモンド量子センシングの基礎・研究動向および高感度化・将来展望~原理・特徴、研究動向、高感度化・デバイス化、応用例など~ 受講可能な形式:【Live配信(アーカイブ配信付)】のみダイヤモンド量子センシン… -
3/18 VCSEL(面発光レーザ)の原理・基本設計と応用開発動向
イベント名 VCSEL(面発光レーザ)の原理・基本設計と応用開発動向 開催期間 2024年03月18日(月)
10:30~16:30
【アーカイブの視聴期間】
視聴期間:セミナー終了の翌営業日から7日間
[3/19~3/25]を予定しています。
※アーカイブは原則として編集は行いません。
※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメール連絡をいたします。
(開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます)
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年03月18日(月)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
VCSEL(面発光レーザ)の原理・基本設計と応用開発動向~多様なフォトニックシステム創出のキーデバイス・VCSEL その原理・構造・基本設計、性能向上に必要な要素技術、応用開発・研究動向を解説~ 受講可能な形式:… -
イベント名 SiCパワーデバイスのための高温耐熱実装技術 開催期間 2024年03月08日(金)
13:00~16:30
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 Live配信セミナー(リアルタイム配信) 会場の住所 東京都 お申し込み期限日 2024年03月08日(金)13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
SiCパワーデバイスのための高温耐熱実装技術■パワー半導体の実装材料、実装技術■ ■高温耐熱導電接続技術■■Ni系接合材料を用いたパワー半導体実装技術の開発■ 受講可能な形式:【Live配信】のみ ★ 従来の実… -
3/26 磁性と磁性材料の基礎 -用途に合わせた最適な材料選定のために-
イベント名 磁性と磁性材料の基礎 -用途に合わせた最適な材料選定のために- 開催期間 2024年03月26日(火) ~ 2024年04月08日(月)
【Live配信】2024年3月26日(火) 10:30~16:30
【アーカイブ配信】2024年4月8日(月)まで受付
(視聴期間:4/8~4/21)
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信(Zoom使用)受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年04月08日(月)16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
磁性と磁性材料の基礎-用途に合わせた最適な材料選定のために-~軟磁性材料(磁心材料)、硬磁性材料(永久磁石)、アモルファス合金、ナノコンポジット磁石、ネオジム磁石~■磁性のメカニズムと磁性材料の基礎知識… -
4/15 <先端半導体洗浄・乾燥技術> 半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで
イベント名 <先端半導体洗浄・乾燥技術> 半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2024年04月15日(月)
【会場受講】 2024年4月15日(月) 10:00~17:00
【Live配信】 2024年4月15日(月) 10:00~17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場受講】もしくは【Live配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 4F 第1特別講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2024年04月15日(月)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
<先端半導体洗浄・乾燥技術>半導体製造ラインのウェーハ表面洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式:【会場受講】or【Live配信】のみシリコンウェーハ上の汚染物質をいかに除去する… -
3/18 <先端半導体クリーン化・歩留向上技術> 先端半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のための ウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで
イベント名 <先端半導体クリーン化・歩留向上技術> 先端半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のための ウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2024年03月18日(月)
【会場受講】 2024年3月18日(月) 10:00~17:00
【Live配信】 2024年3月18日(月) 10:00~17:00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場受講】もしくは【Live配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 4F 第1特別講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2024年03月18日(月)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
<先端半導体クリーン化・歩留向上技術>先端半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式:【会場受講】or【Live配信】のみ半導体表面に付着す…
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