イベント
| イベント名 | 半導体デバイスの 物理的ウエット洗浄の基礎と 最新情報の展開 |
|---|---|
| 開催期間 |
2025年09月29日（月）
～ 2025年10月15日（水）
【ライブ配信】2025年9月29日（月）13:00～16:30 【アーカイブ配信】2025年10月15日（水）まで受付 （視聴期間：10/15～10/28） ※会社・自宅にいながら受講可能です※ 【配布資料】 PDFデータ（印刷可・編集不可） ※開催2日前を目安に、S＆T会員のマイページよりダウンロード可となります。 ※アーカイブ配信受講の場合は配信開始日からダウンロード可となります。 |
| 会場名 | 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 |
| 会場の住所 | オンライン |
| お申し込み期限日 | 2025年10月15日（水）16時 |
| お申し込み受付人数 | 30 名様 |
| お申し込み |
|
半導体デバイスの
物理的ウエット洗浄の基礎と
最新情報の展開
～半導体デバイス製造の基礎、物理的洗浄（スプレー、ブラシ、超音波 等）と
静電気障害への対策～
受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ
【半導体産業応援キャンペーン対象セミナー】3名以上のお申込みでさらにおトク
【オンライン配信】
ライブ配信（Zoom） ►受講方法・接続確認（申込み前に必ずご確認ください）
アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認（申込み前に必ずご確認ください）
アーカイブ配信 ►受講方法・視聴環境確認（申込み前に必ずご確認ください）
半導体デバイス製造工程の歩留まりを決定する洗浄プロセス
物理的洗浄（スプレー、ブラシ、超音波 等）に関する工学的な基礎知識の習得
最新学会から得られた最新動向の情報も解説
物理的洗浄（スプレー、ブラシ、超音波 等）に関する工学的な基礎知識の習得
最新学会から得られた最新動向の情報も解説
| 講師 |
愛知工業大学 工学部 電気学科 教授 博士（工学） 清家 善之 氏
※元旭サナック(株)
| セミナー趣旨 |
近年、半導体デバイスの進化は目覚ましく、その開発スピードは加速の一途をたどっています。本セミナーでは、半導体デバイスにおける物理的ウエット洗浄について、基礎から丁寧にご説明いたします。セミナーでは、まず半導体デバイスの基礎について概説した後、現在の製造プロセスで用いられている物理的洗浄技術について、原理から分かりやすく解説します。さらに、講演者の専門分野である半導体製造時のウエット洗浄時の静電気障害（ESD）対策や、半導体洗浄に関する国際会議の最新動向についてもご紹介いたします。基礎からお話ししますので、半導体デバイス洗浄に携わって3～4年程度の方や、これから半導体洗浄分野への参入を検討されている方にも最適な内容です。
| セミナー講演内容 |
1．半導体デバイス製造の基礎
※詳細・お申込みは上記
「お申し込みはこちらから」（遷移先WEBサイト）よりご確認ください。
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