「表面科学：接着・コーティング」一覧
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イベント名 ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用 開催期間 2025年05月21日（水）
13:00～16:30
会場名 受講可能な形式：【会場受講】のみ 会場の住所 東京都千代田区神田駿河台3-2-11 連合会館 5階 502会議室 地図 https://www.science-t.com/hall/16432.html お申し込み期限日 2025年05月21日（水）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ナノインプリントリソグラフィの基礎・応用ナノインプリントリソグラフィ（Nanoimprint Lithography: NIL）の基礎と実用例を解説 受講可能な形式：【会場受講】 本セミナーでは、NILの基礎と要素技術を紹介した後、… -
5/22 塗装・コーティング現場のゴミ・異物対策実践セミナー
イベント名 塗装・コーティング現場のゴミ・異物対策実践セミナー 開催期間 2025年05月22日（木）
10:30～16:30
会場名 受講可能な形式：【会場受講】のみ 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 4階 第1グループ活動室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2025年05月22日（木）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
塗装・コーティング現場のゴミ・異物対策実践セミナー＜外観品質最大の敵を「見える化」で撃退！＞＜コストをかけずに現場改善！＞ 受講可能な形式：【会場受講】塗装・コーティング・めっき・フィルム製造などの現… -
5/16 ぬれ（撥水/撥油・親水性）の基礎と 液体の滑落性を向上させるための表面設計と最新開発動向
イベント名 ぬれ（撥水/撥油・親水性）の基礎と 液体の滑落性を向上させるための表面設計と最新開発動向 開催期間 2025年05月16日（金）
【会場】2025年5月16日（金）10：30～16：30
【Live配信】2025年5月16日（金） 10：30～16：30
【アーカイブ(見逃し)配信付き】
視聴期間：5/19PM～5/23
※アーカイブ配信は講演内容部分のみとなります。
※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。
(開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【会場(アーカイブ配信付)】or【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5F 第2講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2025年05月16日（金）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ぬれ（撥水/撥油・親水性）の基礎と液体の滑落性を向上させるための表面設計と最新開発動向― ”正しい” ぬれ評価法と制御技術、国内外の最新研究開発動向、 "実用的" な表面処理技術のトレンド ― 受講可能な形式：… -
5/20 固相接合＆液相接合の基礎と 低温・低加圧・低電力接合技術の最新動向
イベント名 固相接合＆液相接合の基礎と 低温・低加圧・低電力接合技術の最新動向 開催期間 2025年05月20日（火）
10:30～16:30
【アーカイブの視聴期間】
視聴期間：終了翌営業日から7日間［5/21～5/27］を予定
※動画は未編集のものになります。
※視聴ページは、終了翌営業日の午前中にはマイページにリンクを設定する予定です。
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年05月20日（火）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
固相接合＆液相接合の基礎と低温・低加圧・低電力接合技術の最新動向～低温・低変形量で精密な接合技術の応用・技術トレンド・産業化～ 受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ ◎固相・液相拡散接合の… -
5/20 半導体露光技術の発展、 およびEUV露光装置の現状と将来展望
イベント名 半導体露光技術の発展、 およびEUV露光装置の現状と将来展望 開催期間 2025年05月20日（火） ～ 2025年06月03日（火）
【Live配信】2025年5月20日（火）13:00～16:30
【アーカイブ配信】2025年6月3日（火）まで申込み受付（視聴期間：6/3～6/16）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年06月03日（火）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
半導体露光技術の発展、およびEUV露光装置の現状と将来展望リソグラフィ技術の原理全般を把握し、装置の構成要素からEUV露光装置の最新技術までを詳しく解説 受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ … -
5/14 細孔分布測定における ガス吸着法・水銀圧入法の測定と解析手法
イベント名 細孔分布測定における ガス吸着法・水銀圧入法の測定と解析手法 開催期間 2025年05月14日（水） ～ 2025年05月23日（金）
【Live配信】2025年5月14日（水）13:00～16:30
【アーカイブ配信】2025年5月23日（金）まで受付
(視聴期間：5/23～6/5）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年05月23日（金）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
細孔分布測定におけるガス吸着法・水銀圧入法の測定と解析手法～マイクロポアやメソポアの比表面積・細孔分布測定、測定やサンプリング時の注意点～ 受講可能な形式：【Live配信】or 【アーカイブ配信】のみ 本セミ… -
4/23 エアロゾルデポジション法の基礎と 成膜技術・応用展開
イベント名 エアロゾルデポジション法の基礎と 成膜技術・応用展開 開催期間 2025年04月23日（水）
10:30～16:30
【アーカイブの視聴期間】
視聴期間：終了翌営業日から7日間［4/24～4/30］を予定
※動画は未編集のものになります。
※視聴ページは、遅くとも終了翌営業日の正午までにマイページにリンクを設定する予定です。
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年04月23日（水）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
エアロゾルデポジション法の基礎と成膜技術・応用展開～原理、装置、成膜条件の膜への影響、成膜体の特徴、各種応用例など～ 受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】のみ成膜の原理、装置の構成、成膜条件… -
4/28まで申込み受付中 【オンデマンド配信】 ゾル-ゲル法の基礎と材料合成、 (新規)材料開発で活用するための実用的な総合知識
イベント名 【オンデマンド配信】 ゾル-ゲル法の基礎と材料合成、 (新規)材料開発で活用するための実用的な総合知識 開催期間 2025年04月28日（月）
23:59まで申込受付中
／映像時間：約4時間14分
／収録日時：2025年1月31日
（期間中は何度でも視聴可）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【オンデマンド配信】 ※何度でも・繰り返し視聴可能です。 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年04月28日（月）23時 お申し込み
【オンデマンド配信】ゾル-ゲル法の基礎と材料合成、(新規)材料開発で活用するための実用的な総合知識～原料・材料選択、合成プロセス、条件の最適化、反応メカニズム、解析、応用～ 視聴期間：申込日含め10営業日（… -
イベント名 透明導電膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向 開催期間 2025年04月30日（水） ～ 2025年05月16日（金）
【Live配信】
2025年4月30日（水）13:00～16:30
【アーカイブ配信】
2025年5月16日（金）まで申込み受付
（視聴期間：5/16～5/29）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年05月16日（金）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
透明導電膜の基礎と塗布型透明導電膜の最新動向ITO系やPEDOT/PSSインク系透明導電膜の製造とその応用事例、EMC対策や太陽電池への展開などについて解説 受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】or【アーカイ… -
4/22 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と 微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望
イベント名 リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と 微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望 開催期間 2025年04月22日（火） ～ 2025年05月13日（火）
【Live配信】2025年4月22日（火）10:30～16:30
【アーカイブ配信】 2025年5月13日（火）まで受付
（視聴期間：5/13～5/26）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2025年05月13日（火）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
リソグラフィ技術・レジスト材料の基礎と微細化・高解像度に向けた応用技術、今後の展望～フォトリソグラフィプロセスの理解とレジスト材料の開発指針～ 受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ 【半…
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