5/30 プラズマＣＶＤ（化学気相堆積）装置による 高品質薄膜の成膜技術、及び量産化対応

SPPテクノロジーズ(株)
製造部 次長　兼　資材グループ長　兼　マーケティング部 マネジャー　金尾 寛人　氏

【経歴・研究内容・専門・活動】
1989年3月　名古屋工業大学 工学部 第一部 電気情報工学科を卒業．
1989年4月　住友金属工業(株)に入社．
Si基板上GaAs膜のヘテロエピタキシー成膜技術の研究開発(1年)や半導体デバイス向けECRプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(10年)
2000年4月　住友精密工業(株)に入社(派遣、2002年3月転籍、2011年12月にSPPテクノロジーズに出向)
MEMSや光デバイス向けプラズマ装置による成膜、エッチング技術の研究開発及び商品開発(3年半)
装置全般の技術営業、マーケティング（現在）

【WebSite】
https://www.spp-technologies.co.jp/

 　当社は、1989年から「研究開発用半導体一貫製造システム」の開発を開始して、装置メーカーとして、30年以上の実績・経験があります。この講演では、プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策を中心にご紹介いたします。

＜得られる知識・技術＞

 プラズマCVD装置に関して、開発してきた技術や課題と対策について知ることができます。

＜講演内容＞