「イベント」一覧 - サイエンス＆テクノロジー株式会社

電気・電子・半導体・通信 / 2025年02月03日 / 電子・半導体

イベント名	チップレット集積の要素技術と実用化に向けた開発動向
開催期間	2025年02月27日（木）～ 2025年03月11日（火）【Live配信】2025年2月27日（木） 13:30～15:00 【アーカイブ配信】 2025年3月11日（火）まで受付 (視聴期間：3/11～3/25） ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
会場の住所	オンライン
お申し込み期限日	2025年03月11日（火）16時
お申し込み受付人数	30 名様
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チップレット集積の要素技術と実用化に向けた開発動向3D集積・光集積技術を含むチップレット集積の最新トレンドと産業化動向受講可能な形式：【Live配信】or 【アーカイブ配信】のみ90分で学ぶ！チップレット集積の…

2/27 リチウムイオン電池の負極活物質基礎から次世代材料まで

蓄電池・発電デバイス / 2025年02月03日 / 化学・樹脂

イベント名	リチウムイオン電池の負極活物質基礎から次世代材料まで
開催期間	2025年02月27日（木） 13:00～16:30 【アーカイブの視聴期間】視聴期間：セミナー終了の翌営業日から7日間［2/28～3/6］を予定しています。 ※アーカイブは原則として編集は行いません。 ※視聴準備が整い次第、担当から視聴開始のメールご連絡をいたします。 (開催終了後にマイページでご案内するZoomの録画視聴用リンクからご視聴いただきます） ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き
会場の住所	オンライン
お申し込み期限日	2025年02月27日（木）13時
お申し込み受付人数	30 名様
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リチウムイオン電池の負極活物質基礎から次世代材料まで受講可能な形式：【Live配信(アーカイブ配信付)】 ●リチウムイオン電池の負極材料にフォーカスして解説●現行の材料・電極技術・製造工程から、シリコン系・…

2/19 ベイズ統計及びベイズモデリングの基本的な考え方とその実践・活用

分析・評価・品質管理 ICT・情報処理 / 2025年02月03日 / IT・情報通信

イベント名	ベイズ統計及びベイズモデリングの基本的な考え方とその実践・活用
開催期間	2025年02月19日（水）～ 2025年03月07日（金）【ライブ配信】2025年2月19日（水）10:30～16:30 【アーカイブ配信】 2025年3月7日（金）まで受付 (視聴期間：3/7～3/21） ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
会場の住所	オンライン
お申し込み期限日	2025年03月07日（金）16時
お申し込み受付人数	30 名様
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ベイズ統計及びベイズモデリングの基本的な考え方とその実践・活用～ベイズ統計の基本、各モデルの理解、データ分析・予測の実践～受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみ多種多様なデータを分析…

2/26 高分子材料（樹脂・ゴム材料）におけるブリードアウト＆ブルーム現象の発生メカニズムの解明と防止・対策技術

樹脂・ゴム・高分子系複合材料生産：製造プロセス・化学工学分析・評価・品質管理 / 2025年02月03日 / 環境化学・樹脂

イベント名	高分子材料（樹脂・ゴム材料）におけるブリードアウト＆ブルーム現象の発生メカニズムの解明と防止・対策技術
開催期間	2025年02月26日（水）～ 2025年03月13日（木）【ライブ配信】 2025年2月26日（水）10:30～16:30 【アーカイブ配信】 2025年3月13日（木）まで受付 (視聴期間：3/13～3/27） ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
会場の住所	オンライン
お申し込み期限日	2025年03月13日（木）16時
お申し込み受付人数	30 名様
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高分子材料（樹脂・ゴム材料）におけるブリードアウト＆ブルーム現象の発生メカニズムの解明と防止・対策技術～配合添加剤、高分子材料中の成分が引き起こす異常・劣化・変質・不良を無くしていくために～受講可能…

2/28 国内外規制をふまえた E&L（Extractables & Leachables）評価基準の考え方と分析・評価方法

医薬品・品質・分析・CMC薬事・製剤医療機器・開発・薬事・製造 / 2025年02月03日 / 医療・バイオ

イベント名	国内外規制をふまえた E&L（Extractables & Leachables）評価基準の考え方と分析・評価方法
開催期間	2025年02月28日（金） 2025年2月28日（金）ごろ配信予定（視聴期間：2/28～3/14）／視聴時間：約5時間 ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【Webセミナー（アーカイブ配信）】のみの開催です。
会場の住所	オンライン
お申し込み期限日	2025年02月28日（金）16時
お申し込み受付人数	30 名様
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国内外規制をふまえたE&L（Extractables & Leachables）評価基準の考え方と分析・評価方法取り組み方を徹底解説【入門講座】受講可能な形式：【アーカイブ配信】のみE＆Lの基礎知識、分析手法、リスクマネジメント…

2/25 〔初中級プロセス開発研究担当者にむけた〕実際に起こった不具合や解決方法、注意点で学ぶスケールアップ・ダウン検討および実験計画の進め方・データのとり方、操作の簡略化

医薬品・製造・GMP 生産：製造プロセス・化学工学 / 2025年02月03日 / 医療・バイオ

イベント名	〔初中級プロセス開発研究担当者にむけた〕実際に起こった不具合や解決方法、注意点で学ぶスケールアップ・ダウン検討および実験計画の進め方・データのとり方、操作の簡略化
開催期間	2025年02月25日（火）～ 2025年03月11日（火）【Live配信受講】2025年2月25日（火）10:30～16:30 【アーカイブ配信受講】2025年3月11日（火）まで受付（配信期間：3/11～3/25） ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き
会場の住所	オンライン
お申し込み期限日	2025年03月11日（火）16時
お申し込み受付人数	30 名様
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〔初中級プロセス開発研究担当者にむけた〕実際に起こった不具合や解決方法、注意点で学ぶスケールアップ・ダウン検討および実験計画の進め方・データのとり方、操作の簡略化【1】開発初期（実験室～20Lスケール）の…

3/24 ＜半導体洗浄・乾燥技術＞半導体製造におけるシリコンウェーハの洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで

電気・電子・半導体・通信生産：製造プロセス・化学工学 / 2025年02月03日 / 電子・半導体

イベント名	＜半導体洗浄・乾燥技術＞半導体製造におけるシリコンウェーハの洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで
開催期間	2025年03月24日（月）【会場受講】 2025年3月24日（月） 10:00～17:00 【Live配信】 2025年3月24日（月） 10:00～17:00 ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【会場受講】もしくは【Live配信受講】
会場の住所	東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5F　第4講習室
地図	https://www.science-t.com/hall/16431.html
お申し込み期限日	2025年03月24日（月）10時
お申し込み受付人数	30 名様
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＜半導体洗浄・乾燥技術＞半導体製造におけるシリコンウェーハの洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで受講可能な形式：【会場受講】or【Live配信】のみシリコンウェーハ上の汚染物質をいかに除去す…

2/27 ＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで

電気・電子・半導体・通信生産：製造プロセス・化学工学 / 2025年02月03日 / 電子・半導体

イベント名	＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで
開催期間	2025年02月27日（木）【会場受講】 2025年2月27日（木） 10:00～17:00 【Live配信】 2025年2月27日（木） 10:00～17:00 ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【会場受講】もしくは【Live配信受講】
会場の住所	東京都千代田区神田駿河台3-2-11 連合会館 4F　401会議室
地図	https://www.science-t.com/hall/16432.html
お申し込み期限日	2025年02月27日（木）10時
お申し込み受付人数	30 名様
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＜半導体クリーン化・歩留向上技術＞半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで受講可能な形式：【会場受講】or【Live配信】のみ半導体表面に付着す…

2/27,3/24 半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術：基礎から最新動向まで　 2か月連続セミナー

電気・電子・半導体・通信生産：製造プロセス・化学工学 / 2025年01月31日 / 電子・半導体

イベント名	半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術：基礎から最新動向まで　 2か月連続セミナー
開催期間	2025年02月27日（木）～ 2025年03月24日（月）【クリーン化・歩留向上技術：会場受講】会場：東京・千代田区駿河台連合会館 4F　401会議室 2025年2月27日（木） 10:00～17:00 【クリーン化・歩留向上技術：Live配信】 2025年2月27日（木） 10:00～17:00 【洗浄・乾燥技術：会場受講】会場：東京・品川区大井町きゅりあん 5F　第4講習室 2025年3月24日（月） 10:00～17:00 【洗浄・乾燥技術：Live配信】 2025年3月24日（月） 10:00～17:00 ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【会場受講】もしくは【Live配信受講】
会場の住所	東京都【クリーン化・歩留向上技術】千代田区神田駿河台3-2-11連合会館 4F　401会議室 / 【洗浄・乾燥技術：会場受講】品川区東大井5-18-1きゅりあん 5F　第4講習室
お申し込み期限日	2025年02月27日（木）10時
お申し込み受付人数	30 名様
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半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術：基礎から最新動向まで 2か月連続セミナー2月27日(木)クリーン化・歩留向上技術編／ 3月24日(月)洗浄・乾燥技術編受講可…

2/28 スクリーン印刷の基礎と実践的な高品質印刷プロセス構築手法

電気・電子・半導体・通信表面科学：接着・コーティング / 2025年01月31日 / 電子・半導体

イベント名	スクリーン印刷の基礎と実践的な高品質印刷プロセス構築手法
開催期間	2025年02月28日（金）～ 2025年03月14日（金）【ライブ配信】2025年2月28日（金）10:30～16:30 【アーカイブ配信】2025年3月14日（金）まで受付 (視聴期間：3/14～3/28） ※会社・自宅にいながら受講可能です※
会場名	【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】
会場の住所	オンライン
お申し込み期限日	2025年03月14日（金）16時
お申し込み受付人数	30 名様
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スクリーン印刷の基礎と実践的な高品質印刷プロセス構築手法～インキ、ペーストの身になって考える「ペーストプロセス理論」の理解と実践～受講可能な形式：【ライブ配信】or【アーカイブ配信】のみノウハウの固ま…