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3/12 研究開発部門が行う 高収益ビジネスモデルの構築と実現
イベント名 研究開発部門が行う 高収益ビジネスモデルの構築と実現 開催期間 2026年03月12日(木)
10:30~16:30
【見逃し配信の視聴期間】
2026年3月13日(金)~3月19日(木)
※ライブ配信を欠席して見逃し配信のみの視聴も可能です。
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
PDFデータ(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、S&T会員のマイページよりダウンロード可となります。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年03月12日(木)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
研究開発部門が行う高収益ビジネスモデルの構築と実現~継続的な高収益をもたらす仕組みづくりと具体的な活動・行動・施策~ 受講可能な形式:【ライブ配信(見逃し配信付)】のみ 【オンライン配信】ライブ配信(Zo… -
3/13 核酸医薬品・mRNA医薬品開発にむけた戦略的な体内動態制御と 標的指向性の最適化・送達効率化を高めるDDS技術
イベント名 核酸医薬品・mRNA医薬品開発にむけた戦略的な体内動態制御と 標的指向性の最適化・送達効率化を高めるDDS技術 開催期間 2026年03月13日(金) ~ 2026年03月30日(月)
【ライブ配信】2025年3月13日(金)13:00~16:30
【アーカイブ受講】2026年3月30日(月)
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
【配布資料】
ライブ配信受講:PDFテキスト(※印刷可・編集不可)
アーカイブ配信受講:PDFテキスト(※印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。なお、アーカイブ配信受講の場合は、配信日になります。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年03月30日(月)16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
核酸医薬品・mRNA医薬品開発にむけた戦略的な体内動態制御と標的指向性の最適化・送達効率化を高めるDDS技術~核酸医薬に特有の動態特性の基礎と課題克服の技術~~リガンド修飾/脂質ナノ粒子・リポソーム・エクソソ… -
3/4 再構築が進むリチウムイオン電池2026 ~ドライプロセス・バイポーラ電極・全固体化の技術潮流~
イベント名 再構築が進むリチウムイオン電池2026 ~ドライプロセス・バイポーラ電極・全固体化の技術潮流~ 開催期間 2026年03月04日(水)
10:30~16:30
【見逃し配信の視聴期間】
2026年3月5日(木)~3月11日(水)までを予定
※このセミナーは見逃し配信付です。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※ライブ配信受講を欠席し、見逃し配信視聴のみの受講も可能です。
※録画データは原則として編集は行いません。
※視聴準備が整い次第、視聴開始のメール連絡をいたします。マイページからZoomの録画視聴用URLにてご視聴いただきます。
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年03月04日(水)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
再構築が進むリチウムイオン電池2026~ドライプロセス・バイポーラ電極・全固体化の技術潮流~ 受講可能な形式:【ライブ配信(見逃し配信付)】 【オンライン配信】Zoomによるライブ配信 ►受講方法・接続確認(申込… -
3/25 GMP対応:試験検査室管理と 技術移転及びOOS/OOT対応
イベント名 GMP対応:試験検査室管理と 技術移転及びOOS/OOT対応 開催期間 2026年03月25日(水) ~ 2026年04月09日(木)
【ライブ配信】2026年3月25日(水)10:30~16:30
【アーカイブ配信】2026年4月9日(木)まで受付
(配信期間:4/9~4/22)
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
【配布資料】
ライブ配信受講:PDFテキスト(印刷可・編集不可)
アーカイブ配信受講:PDFテキスト(印刷可・編集不可)
※開催2日前を目安に、弊社HPのマイページよりダウンロード可となります。なお、アーカイブ配信受講の場合は、配信日になります。会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年04月09日(木)16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
GMP対応:試験検査室管理と技術移転及びOOS/OOT対応~データインテグリティの重要性とは~ 受講可能な形式:【ライブ配信(アーカイブ配信付)】or【アーカイブ配信】のみ 【オンライン配信】Zoomによるライブ… -
3/27,4/17 半導体製造における シリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術 および洗浄・乾燥技術:基礎から最新動向まで 2か月連続セミナー
イベント名 半導体製造における シリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術 および洗浄・乾燥技術:基礎から最新動向まで 2か月連続セミナー 開催期間 2026年03月27日(金) ~ 2026年04月17日(金)
【クリーン化・歩留向上技術:会場受講】
きゅりあん 4F 第1特別講習室
2026年3月27日(金) 10:00~17:00
【クリーン化・歩留向上技術:Live配信】
2026年3月27日(金) 10:00~17:00
【洗浄・乾燥技術:会場受講】
きゅりあん 5F 第3講習室
2026年4月17日(金) 10:00~17:00
【洗浄・乾燥技術:Live配信】
2026年4月17日(金) 10:00~17:00
※会場受講のみ昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中の会場でのパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト
■会場受講:会場にて直接お渡しします。
■Live配信受講:開催日の4、5日前に発送予定
※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
視聴画面ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
※なお、セミナー毎の配布になります。会場名 【会場受講】もしくは【ライブ配信受講】 会場の住所 東京都東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2026年03月27日(金)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
半導体製造におけるシリコンウェーハ表面のクリーン化・歩留向上技術および洗浄・乾燥技術:基礎から最新動向まで2か月連続セミナー3月27日(金)クリーン化・歩留向上技術編 / 4月17日(金)洗浄・乾燥技術編 受講可能… -
3/27 <半導体クリーン化・歩留向上技術> 半導体製造ラインの汚染の実態と 歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の 基礎から最新動向まで
イベント名 <半導体クリーン化・歩留向上技術> 半導体製造ラインの汚染の実態と 歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の 基礎から最新動向まで 開催期間 2026年03月27日(金)
【会場受講】2026年3月27日(金)10:00~17:00
【ライブ配信】2026年3月27日(金)10:00~17:00
※会場受講のみ昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中の会場でのパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト
■会場受講:会場にて直接お渡しします。
■ライブ配信受講:開催日の4、5日前に発送予定
※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
視聴画面ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。会場名 【会場受講】もしくは【ライブ配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 4F 第1特別講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2026年03月27日(金)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
<半導体クリーン化・歩留向上技術>半導体製造ラインの汚染の実態と歩留向上のためのシリコンウェーハ表面汚染防止技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式:【会場受講】or【ライブ配信】のみ 【オンライン配信… -
4/17 <半導体洗浄・乾燥技術> 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで
イベント名 <半導体洗浄・乾燥技術> 半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥 および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 開催期間 2026年04月17日(金)
【会場受講】2026年4月17日(金)10:00~17:00
【ライブ配信】2026年4月17日(金)10:00~17:00
※会場受講のみ昼食付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
※講義中の会場でのパソコン使用はキーボードの打音などでご遠慮いただく場合がございます。
※開催日の概ね1週間前を目安に、最少催行人数に達していない場合、セミナーを中止することがございます。
【配布資料】
製本テキスト
■会場受講:会場にて直接お渡しします。
■ライブ配信受講:開催日の4、5日前に発送予定
※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。
視聴画面ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。会場名 【会場受講】もしくは【ライブ配信受講】 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5F 第3講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2026年04月17日(金)10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
<半導体洗浄・乾燥技術>半導体製造におけるシリコンウェーハの精密洗浄・乾燥および汚染除去技術の基礎から最新動向まで 受講可能な形式:【会場受講】or【ライブ配信】のみ 【オンライン配信】Zoomによるライブ配… -
3/24 相分離生物学の基礎と 創薬への応用に向けた先駆的研究事例/展開
イベント名 相分離生物学の基礎と 創薬への応用に向けた先駆的研究事例/展開 開催期間 2026年03月24日(火) ~ 2026年04月08日(水)
【ライブ配信受講(アーカイブ配信付)】
2026年3月24日(火) 13:00~16:30
【アーカイブ配信受講】
2026年4月8日(水) まで受付
(配信期間:4/8~4/21)
※会社・自宅にいながら受講可能です。
※資料付
※講義中の録音・撮影はご遠慮ください。
【配布資料】
■Live配信受講:製本テキスト(開催日の4、5日前に発送予定)
※開催まで4営業日~前日にお申込みの場合、セミナー資料の到着が、開講日に間に合わない可能性がありますこと、ご了承下さい。Zoom上ではスライド資料は表示されますので、セミナー視聴には差し支えございません。
■アーカイブ配信受講:製本テキスト(配信開始日を目安に発送)会場名 【Zoomによるライブ配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2026年04月08日(水)16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
相分離生物学の基礎と創薬への応用に向けた先駆的研究事例/展開~液-液相分離(LLPS)という新しい視点をどのように適用し、問題解決へ近づけるか~ 受講可能な形式:【ライブ配信(アーカイブ配信付)】or【アーカイ… -
【技術書籍】【製本版+ebook版】ICH M7(R2)・EMA・FDAガイダンスをふまえたニトロソアミン類の分析法/許容摂取量とリスク管理・評価
【製本版+ebook版】ICH M7(R2)・EMA・FDAガイダンスをふまえたニトロソアミン類の分析法/許容摂取量とリスク管理・評価~ニトロソアミン類の混入原因とリスク低減措置(事例紹介)~~ニトロソアミン原薬関連不純物… -
【技術書籍】ICH M7(R2)・EMA・FDAガイダンスをふまえたニトロソアミン類の分析法/許容摂取量とリスク管理・評価
ICH M7(R2)・EMA・FDAガイダンスをふまえたニトロソアミン類の分析法/許容摂取量とリスク管理・評価~ニトロソアミン類の混入原因とリスク低減措置(事例紹介)~~ニトロソアミン原薬関連不純物(NDSRI)、CPCAの許…
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