「生産：製造プロセス・化学工学」一覧
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イベント名 洗浄技術と洗浄プロセス最適化の総合知識 開催期間 2024年04月26日（金） ～ 2024年05月14日（火）
【Live配信】2024年4月26日（金）10:30～16:30
【アーカイブ配信】2024年5月14日（火）まで受付
(視聴期間：5/14～5/27）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年05月14日（火）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
洗浄技術と洗浄プロセス最適化の総合知識～洗浄メカニズムの理解、理論＆実践と洗浄不良対策～■湿式・乾式の洗浄工程の組み立て方法■■高品質洗浄への取り組みと洗浄工程の管理■■洗浄不良への対応方法■ 受講可… -
4/26 ＜外観品質最大の敵を「見える化」で撃退！＞ ＜コストをかけずに現場改善！＞ 塗装・コーティング現場のゴミ・異物対策実践セミナー
イベント名 ＜外観品質最大の敵を「見える化」で撃退！＞ ＜コストをかけずに現場改善！＞ 塗装・コーティング現場のゴミ・異物対策実践セミナー 開催期間 2024年04月26日（金）
10:30～16:30
会場名 受講可能な形式：【会場受講】のみ 会場の住所 東京都品川区東大井5-18-1 きゅりあん 5階 第一講習室 地図 https://www.science-t.com/hall/16431.html お申し込み期限日 2024年04月26日（金）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
＜外観品質最大の敵を「見える化」で撃退！＞＜コストをかけずに現場改善！＞塗装・コーティング現場のゴミ・異物対策実践セミナー～原因を＜見える化＞して根本から改善する！～ 受講可能な形式：【会場受講】塗装… -
4/26 スプレードライ（噴霧乾燥）の 基本原理、運転管理と実用総合知識
イベント名 スプレードライ（噴霧乾燥）の 基本原理、運転管理と実用総合知識 開催期間 2024年04月26日（金） ～ 2024年05月14日（火）
【Live配信】2024年4月26日（金）10:30～16:30
【アーカイブ配信】2024年5月14日（火）まで受付
(視聴期間：5/14～5/27）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年05月14日（火）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
スプレードライ（噴霧乾燥）の基本原理、運転管理と実用総合知識～狙った製品を生産・製造するためにスプレードライヤへの理解を深める～■スプレードライヤの仕組み、メリット■■用途・対象物に応じた最適な装置選… -
イベント名 一から学ぶ 流体力学 開催期間 2024年04月24日（水） ～ 2024年05月10日（金）
【Live配信】2024年4月24日（水） 10:30～16:30
【アーカイブ配信】2024年5月10日（金）まで受付
(視聴期間：5/10～5/23）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年05月10日（金）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
一から学ぶ 流体力学～流れのイメージを掴んで実務に活かす流体力学の入門講座～ 受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ数式がたくさん出てくる、聞きなれない用語が多い、液体・気体の流れは目に見… -
3/28,4/24 フロー合成・連続生産・マイクロリアクター／スケールアップ コース
イベント名 フロー合成・連続生産・マイクロリアクター／スケールアップ コース 開催期間 2024年03月28日（木） ～ 2024年04月08日（月）
Aコース
【Live配信受講】2024年3月28日（木）13:00～16:30
【アーカイブ配信受講】2024年4月8日（月）まで受付
（配信期間：4/8～4/19）
Bコース
【Live配信受講】2024年4月24日（水）13:00～16:30
【アーカイブ配信受講】2024年5月8日（水）まで受付
（配信期間：5/8～5/21）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年04月08日（月）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
フロー合成・連続生産・マイクロリアクター／スケールアップ コース 受講可能な形式：【Live配信】or【アーカイブ配信】のみ〔単コースでも受講可能〕 Aコース 3/28開催 医薬品,原薬製造プロセスにおけるGMP製造に… -
4/24 事例で学ぶマイクロリアクターの 設備選定方法／スケールアップ(ラボからパイロット・製造)・パラメータ検討方法 ≪よく起こるトラブルとその解消方法や対策≫
イベント名 事例で学ぶマイクロリアクターの 設備選定方法／スケールアップ(ラボからパイロット・製造)・パラメータ検討方法 ≪よく起こるトラブルとその解消方法や対策≫ 開催期間 2024年04月24日（水） ～ 2024年05月08日（水）
【Live配信受講】2024年4月24日（水）13:00～16:30
【アーカイブ配信受講】2024年5月8日（水）まで受付
（配信期間：5/8～5/21）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年05月08日（水）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
事例で学ぶマイクロリアクターの設備選定方法／スケールアップ(ラボからパイロット・製造)・パラメータ検討方法≪よく起こるトラブルとその解消方法や対策≫フロー合成・連続生産・マイクロリアクター／スケールアッ… -
4/19 化学プロセスのスケールアップと トラブルシューティング事例
イベント名 化学プロセスのスケールアップと トラブルシューティング事例 開催期間 2024年04月19日（金）
10：30～17：00
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 Live配信セミナー（リアルタイム配信） 会場の住所 東京都 お申し込み期限日 2024年04月19日（金）10時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
化学プロセスのスケールアップとトラブルシューティング事例～小スケール実験からパイロットを経て実機スケールへスケールアップ～【撹拌，反応，晶析，ろ過，乾燥操作について、スケールアップの基礎とトラブルを防… -
4/23 結晶化・晶析操作の基礎と結晶粒子群の特性を 精密制御するための作り込みノウハウ
イベント名 結晶化・晶析操作の基礎と結晶粒子群の特性を 精密制御するための作り込みノウハウ 開催期間 2024年04月23日（火） ～ 2024年05月13日（月）
【Live配信】2024年4月23日（火）10:30～16:30
【アーカイブ配信】2024年5月13日（月）まで受付
（視聴期間：5/13～5/24）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年05月13日（月）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
結晶化・晶析操作の基礎と結晶粒子群の特性を精密制御するための作り込みノウハウ～結晶純度・不純物、多形、分布、形態の改善から連続フロー製造まで～～晶析に関係するパラメーターや、トレンド・トラブルシューテ… -
4/16 ライフサイクルアセスメント (LCA) の考え方と実践方法 ～製品や組織の環境パフォーマンスと資源循環の評価手法～
イベント名 ライフサイクルアセスメント (LCA) の考え方と実践方法 ～製品や組織の環境パフォーマンスと資源循環の評価手法～ 開催期間 2024年04月16日（火）
13:00～16:30
【アーカイブの視聴期間】
2024年4月17日(水)～4月23日(火)まで
このセミナーはアーカイブ付きです。セミナー終了後も繰り返しの視聴学習が可能です。
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【ZoomによるLive配信セミナー】アーカイブ(見逃し)配信付き 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年04月16日（火）13時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
ライフサイクルアセスメント (LCA) の考え方と実践方法～製品や組織の環境パフォーマンスと資源循環の評価手法～■組織（企業）の温室効果ガス排出量を算定するスコープ3■■環境負荷の削減効果をLCAによって評価す… -
4/5 半導体の洗浄技術の基礎、 付着物の有効な除去とクリーン化技術
イベント名 半導体の洗浄技術の基礎、 付着物の有効な除去とクリーン化技術 開催期間 2024年04月05日（金） ～ 2024年04月18日（木）
【Live配信】 2024年4月5日（金） 13:00～16:30
【アーカイブ配信】 2024年4月18日（木）まで受付
（視聴期間：4/18～5/2）
※会社・自宅にいながら受講可能です※会場名 【Live配信（Zoom使用）受講】もしくは【アーカイブ配信受講】 会場の住所 オンライン お申し込み期限日 2024年04月18日（木）16時 お申し込み受付人数 30 名様 お申し込み
半導体の洗浄技術の基礎、付着物の有効な除去とクリーン化技術～半導体基板・デバイスにおける固体表面と固液界面の性質を把握した洗浄技術～■洗浄の基本メカニズムと半導体デバイス■■半導体基板で有効な付着物の…
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